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            CMP
            
    
            
    
            

            

            推薦拋光液：材料界的‘SPA’專家！
            
	
            中國粉體網(wǎng)訊 化學機械拋光（CMP）技術能夠消除芯片表面的高點及波浪形。CMP通過拋光液中化學試劑的化學腐蝕和機械磨削的雙重耦合作用，在原子水平上去除表面缺陷，獲得全局平坦化表面，因此，拋光液對拋光效果起到至關重要的影響。C[更多]
            
            
            
              資訊
拋光研磨拋光化學機械拋光CMP拋光液
            
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            中國粉體網(wǎng)
            
          
      
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