中國粉體網(wǎng)訊 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)技術(shù)是實(shí)現(xiàn)材料全局表面平坦化的重要手段,稀土鈰基磨料因其具有顆粒硬度適中、可與被拋光材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)、可回收性和資源豐富等優(yōu)勢(shì)是目前應(yīng)用最廣泛的CMP磨料。在稀土材料用于拋光粉之前,人們通[更多]
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