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面議型號(hào)
量產(chǎn)級(jí)多功能薄膜沉積設(shè)備品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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該設(shè)備基于晶圓真空傳輸平臺(tái)VTM,可以靈活配備傳輸腔室和工藝腔室,工藝腔室可選配電子束蒸發(fā)腔室、分子束外延腔室、濺射腔室、熱蒸發(fā)腔室和預(yù)清洗腔室等??蓪?shí)現(xiàn)多種材料的精確沉積。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 8~12吋 |
極限真空 | 優(yōu)于5×10-9mbar(工藝室PM) 優(yōu)于5×10-7mbar(傳輸室TM) 優(yōu)于5×10-6mbar(進(jìn)樣室Load lock) |
工藝室 | 可選配電子束蒸發(fā)腔室、分子束外延腔室、熱蒸發(fā)腔室、預(yù)清洗室、濺射室、退火室、低溫室、蒸發(fā)室、氧化室等 |
傳輸室 | 可選四邊形、六邊形或八邊形腔室,可實(shí)現(xiàn)多個(gè)傳輸室互聯(lián),配置雙臂或單臂機(jī)械臂,配置校準(zhǔn)和測(cè)量裝置 |
進(jìn)樣室 | 8或12吋晶圓,可選EFEM等前端模塊 |
詳細(xì)配置可咨詢業(yè)務(wù) |
暫無數(shù)據(jù)!