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電子束蒸發(fā)設(shè)備—E-Beam-UHV品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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電子束蒸發(fā)設(shè)備可以在高真空和超高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)精確的多層薄膜制備。線性電子束槍可以實(shí)現(xiàn)多種材料的蒸發(fā)。設(shè)備可選配考夫曼離子源實(shí)現(xiàn)晶圓的預(yù)清洗，可用于超導(dǎo)量子等領(lǐng)域，適用于高校及企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)場(chǎng)合。
性能參數(shù)
| 晶圓尺寸 | 4inch~8inch |
| 極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar |
| 溫控 | RT-800℃ |
| 電子束槍 | 超高真空線性運(yùn)動(dòng)電子束槍，可選配坩堝數(shù)量和容量（標(biāo)配，10KW，6×15cc） |
| 晶圓清洗 | 可選配考夫曼離子源實(shí)現(xiàn)晶圓清洗 |
| 清洗均勻性 | 例：4inch晶圓優(yōu)于±3% |
| 控制系統(tǒng) | PC+PLC，全自動(dòng)操作與安全互鎖 |
| 樣品臺(tái) | 180度傾斜，360度旋轉(zhuǎn)，可選升降與偏壓 |
| 膜厚測(cè)量 | 膜厚儀，可伸縮 |
| 占地面積 | 3m L*2m W*2m H |
| 可選 | 低溫泵、自動(dòng)傳輸、工藝菜單等 |
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