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科研級磁控濺射設(shè)備—MS-400品牌
致真精密產(chǎn)地
安徽樣本
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MS-400磁控濺射設(shè)備是一款多功能多靶磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度，設(shè)備維護(hù)簡單的特點(diǎn)。MS-400系統(tǒng)標(biāo)配6個(gè)2inch共焦超高真空陰極，滿足實(shí)驗(yàn)室或企業(yè)實(shí)驗(yàn)室中工藝研究的需求，維護(hù)簡單，運(yùn)行穩(wěn)定。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar（金屬密封） 優(yōu)于1×10-8mbar（膠圈密封） |
溫控 | RT-800℃，可選**1200℃ |
陰極數(shù)量 | 6~7個(gè)2inch，共焦濺射 |
客戶案例1
通過本MS-400科研級磁控濺射，制備了具有強(qiáng)PMA的Mo基結(jié)構(gòu)的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結(jié)薄膜。
暫無數(shù)據(jù)！
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