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        脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400
        脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400

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        面議

        型號

        脈沖激光沉積設(shè)備—PLD-400

        品牌

        致真精密

        產(chǎn)地

        安徽

        樣本

        暫無
        合肥致真精密設(shè)備有限公司

        高級會員

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        脈沖激光沉積設(shè)備是高校和科研院所常用的氧化物和多組分薄膜沉積設(shè)備,該設(shè)備具有簡單可靠、運(yùn)行穩(wěn)定的特點(diǎn)。PLD-400型脈沖激光沉積設(shè)備,標(biāo)配6個(gè)1inch靶材,靶材可以原位更換,配合RHEED和準(zhǔn)分子激光器可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。

        性能參數(shù)

        晶圓尺寸

        2inch

        極限真空

        5×10-9mbar

        溫控

        RT-1200℃

        靶臺數(shù)量

        6個(gè)1inch 靶材或3個(gè)2inch靶材

        靶臺公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)(可單獨(dú)旋轉(zhuǎn))

        靶材更換

        原位更換靶材

        激光源準(zhǔn)分子激光器
        常用材料BFO、SRO、VO2等
        占地面積3m L*2m W*2m H
        可選自動傳輸、反應(yīng)沉積、膜厚儀、工藝菜單、高壓RHEED等



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        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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