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產品特點：
? 橢圓偏振術測量紫外光到可見光波長橢圓參數(shù)。
? 0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度測量。
? 400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速測量橢圓偏光光譜。
? 可自由變換反射測量角度，得到更詳細的薄膜解析數(shù)據(jù)。
? 非線性*小平方法解析多層膜、光學常數(shù)。
產品規(guī)格：
| 膜厚測量范圍 | 0.1nm~ |
| 波長測量范圍 | 250~800nm（可選擇350～1000nm） |
| 感光元件 | 光電二極管陣列512ch（電子制冷） |
| 入射/反射角度范圍 | 45～90o |
| 電源規(guī)格 | AC1500VA（全自動型) |
| 尺寸 | 1300（H）×900（D）×1750（W）mm |
| 重量 | 約350kg（全自動型） |
應用范圍：
■半導體晶圓?電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜，電極材料等?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻劑光學常數(shù)(波長色散)■化合物半導體?AlxGa (1-x) As多層膜、非結晶矽■平面顯示器?配向膜?電漿顯示器用ITO、MgO等■新材料?類鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導性薄膜、磁頭薄膜■光學薄膜?TiO 2、SiO 2、多層膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷領域?g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)等于各波長的n、k值評價
應用范例：
非線性*小平方法比對NIST標準樣品(SiO 2)膜厚精度確認
暫無數(shù)據(jù)！
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