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AFIXX 20m手動系統(tǒng)
臺式系統(tǒng)設(shè)計用于手動將單個基板臨時粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專為實驗室開發(fā)的臨時粘合技術(shù)。這是一個多功能系統(tǒng)，非常適合許多R＆D應(yīng)用程序。AFIXX 20m配備有加熱板，可將載體或基材加熱到200℃。
特點：
適用于圓形晶圓片或方形基片；
基片尺寸：**到直徑200mm（直徑8英寸）或150x150 mm（6 x6英寸），圓形晶圓片可選：直徑300毫米（直徑12英寸）；
帶加熱板，**200℃；
適用于非常薄的易碎晶圓（<40 um）和柔性塑料材料；
激光標記可準確對準晶圓和載體；
手動調(diào)節(jié)水平；
與硅，化合物和玻璃材料兼容；
專為研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計；
應(yīng)用：
將基材臨時粘合到不同類型的載體上：
基板上的基板
玻璃載體上的基板
藍寶石載體上的基板
陶瓷載體上的基材
不同的粘合劑，例如：
蠟＞通過熱處理激活
粘合劑>受溫度和溶劑的影響，活化
產(chǎn)品參數(shù)：
基板尺寸：**直徑200mm（直徑8英寸）或150x 150 mm（6 x 6英寸）
設(shè)備外殼：PP材質(zhì)
工作臺表面：微拋光不銹鋼和陽極氧化鋁材質(zhì)
電源：230（110）VAC / 1Phase/ N / PE / 50（60）Hz
真空：-0.8 bar / -600 Torr，管外徑8 mm，內(nèi)徑6 mm
控制臺：350x 350 x 372毫米（13.8 x 13.8x 14.6英寸）
加熱板模塊：350x 411 x 207毫米（13.8 x 16.2x 8.2英寸）
主營產(chǎn)品：
Laurell勻膠機
Harrick等離子清洗機
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機
Novascan紫外臭氧清洗機
Nilt納米壓印機
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動壓片機
暫無數(shù)據(jù)！
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