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?本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共 4625字，閱讀大約需要 16分鐘摘要：為了避免可能對患者造成負面健康的后果，應盡量減少任何醫(yī)療設備帶來的顆粒污染。有害顆粒所帶來的健康風險取決于設備以及它們進入體內的最終位置。進入靜脈系統(tǒng)的顆粒可能會引起靜脈炎、肺肉芽腫、局部組織梗塞和栓塞等，進而對人體造成傷

?一、介紹 一次性使用系統(tǒng)（SUS）的利用在制藥和生物制藥行業(yè)繼續(xù)增長。隨著SUS產品的采用越來越多，人們對一次性使用組件的純度問題及其對高價值最終產品的生物制造、存儲和運輸?shù)臐撛谟绊戇M行了更多的研究。Aramus?一次性凍存袋由單層、高等級、伽馬穩(wěn)定的含氟聚合物制成，提供高純度、極低的溶出和析出（E

?一、介紹 化學機械拋光/平坦化（CMP）是微電子行業(yè)廣泛使用的一種通過化學力和機械力結合使表面光滑的工藝。該工藝使用研磨腐蝕性拋光液來幫助晶圓表面平坦化。CMP拋光液是納米級磨料顆粒和其他化學物質（包括表面活性劑、pH值調節(jié)劑、氧化劑、有機酸和絡合劑）的復雜混合物。磨料的粒度分布是一個關鍵參數(shù)，會對

?本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共 6593字，閱讀大約需要 22分鐘引言：高壓均質機對于乳劑制備的作用乳劑通常是由兩種互不相溶的液體，其中一種以微小液滴的形式分散在另一種液體中所形成的非均相分散體系，這些液滴通常直徑在0.1至100微米之間，由乳化劑穩(wěn)定。因此乳劑通常是由水相、油相和乳化劑三部分

?1背景摘要：在復雜注射劑的研發(fā)和制劑開發(fā)中，處方篩選至關重要，它直接關系到藥物的有效性、穩(wěn)定性和安全性。本文主要介紹了 LUMiSizer穩(wěn)定性分析設備在處方篩選中的作用，如快速進行處方篩選，以節(jié)省研發(fā)時間，并通過兩個案例進行了具體分析。在丙泊酚脂肪乳劑的案例中，LUM系列穩(wěn)定性分析儀可快速、直接地

?本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共 3215字，閱讀大約需要 12分鐘引言：膠體穩(wěn)定性分析技術本文主要探討了膠體懸浮液的穩(wěn)定性控制問題。膠體懸浮液在藥物輸送、軟飲料制造、涂層、拋光等領域有廣泛應用，其穩(wěn)定性對產品性能、保質期、生產效率和成本控制至關重要。文章介紹了 單顆粒光學傳感技術（SPOS）技

?本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共 3107字，閱讀大約需要 12分鐘摘要：復雜注射劑的粒徑控制是其制備中的關鍵一環(huán)，注射劑的平均粒徑、不溶性顆粒以及尾端大顆粒是其質量控制的重要內容。Entegris（PSS）公司利用Nicomp系列儀器進行平均粒徑與粒徑分布檢測，利用AccuSizer系列儀器進

?本文隸屬于一提化解決方案系列，全文共 3118 字，閱讀大約需要 12分鐘摘要：化學機械平坦化（CMP）研磨液（Slurry，漿料）包含少量大顆粒（LPC），會在晶圓表面造成微劃痕。在不改變工作顆粒分布的情況下，從高固含量的研磨液中捕獲大顆粒是研磨液過濾器面臨的主要挑戰(zhàn)之一。過濾器性能評估常用聚苯乙

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?1 本文的應用背景盡管銅化學機械平坦化(CMP)已成為半導體制造業(yè)實現(xiàn)集成電路局部和全局平坦化的關鍵技術，但在阻擋層CMP過程中仍有一些問題需要克服，如有機殘留物、表面顆粒、蝶形缺陷、侵蝕和劃痕，其中，劃痕將是CMP過程中最有害的缺陷。因為在CMP后的清洗過程中，產生的其他類型的缺陷可以通過不同方法

?全文共 5735 字，閱讀大約需要 18 分鐘摘要：蛋黃米諾地爾，一款備受矚目的生發(fā)神器，正以其獨特的技術和成分，幫助越來越多的人重拾濃密秀發(fā)。Oaku團隊致力于通過納米技術，特別是通過珠磨法制備了5％MXD納米顆粒制劑（MXD-NPs）。該配方既具有MXD納米顆粒的分散性，又通過使用靶向毛囊的納米

?全文共 1425 字，閱讀大約需要 5 分鐘摘要：蛋黃醬是一種濃稠的奶油調味品，是由油、蛋黃和醋或檸檬汁組成的穩(wěn)定乳液，可搭配多種香草和香料。像其他乳液一樣，其滴度在穩(wěn)定性方面起著重要作用。制作新型蛋黃醬（或蛋黃醬類涂抹醬）的配方師也許希望能夠分析油滴大小，以優(yōu)化新的配方，從而獲得最長的保質期。Ac

?全文共 2748 字，閱讀大約需要 9 分鐘摘要：化學機械拋光/平坦化 (CMP) 是一種廣泛用于微電子行業(yè)的工藝，通過化學力和機械力的結合來平滑表面。該工藝使用磨蝕性和腐蝕性的漿料來幫助平整晶片表面。CMP漿料是納米級磨粒和其他化學品的復雜混合物，包括表面活性劑、pH 調節(jié)劑、氧化劑、有機酸和絡合

?全文共 2728 字，閱讀大約需要 9分鐘1 高粘度光刻膠用顏料介紹光刻膠是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、去膠等工藝將需要的圖形從掩模版轉移到待加工襯底上的材料。經(jīng)曝光后，光刻膠在顯影液中溶解度會發(fā)生變化，從而可以形成圖案。光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一，占芯片制造時間的40%~5

?1 引言3D打印，也稱為增材制造（Additive Manufacturing），是一種制造技術，通過將數(shù)字化的三維模型切片并逐層構建，從而創(chuàng)建物體的過程。傳統(tǒng)的制造技術通常是通過去除材料來制造物體，例如銑削或車削，在此過程中，通過從塊狀原料中去除多余材料來形成所需形狀。而在3D打印中，則是通過逐層

?全文共 1815 字，閱讀大約需要6分鐘背景：佐劑是基于重組蛋白的現(xiàn)代疫苗的關鍵組成部分，這些疫苗通常免疫原性很差，沒有其他免疫刺激劑。水包油乳劑包含一類高級的疫苗佐劑，它們是批準的季節(jié)性和大流行性流感疫苗的組成部分。但是，很少有報道系統(tǒng)地評估不同乳液組分的體外穩(wěn)定性和體內佐劑作用。目標：為了評估不

?1 為什么大量的客戶購買一個Nicomp DLS1 數(shù)據(jù)處理量大。動態(tài)光散射(DLS)儀可以優(yōu)化靈敏度并進行調整提高數(shù)據(jù)的重復性。Nicomp儀是為極高的靈敏度而設計的。2 Nicomp算法是能夠確定多峰的存在，并且可以分析比其他DLS儀更相鄰的峰（圖1）。3 可以訪問算法的設置，根據(jù)特定的樣品微調

?全文共 895 字，閱讀大約需要 3 分鐘1概述對于某些應用場景，只有少量樣品可用于使用多種技術進行分析。在制藥研究中，擁有 1 ml或更少蛋白質樣品并需要進行多次分析并不罕見。AccuSizer? 能使用小體積測量顆粒大小和濃度，本篇文章將提供AccuSizer用于微量樣品顆粒濃度檢測的實際案例。

?SemiChem APM 200是一款用于DSP+過程控制中（HF）和總酸（Total Acid）的監(jiān)測工具，它將幫助您開啟全新的產品探索之旅。關鍵詞:DSP;酸值檢測;先進過程監(jiān)控器1 介紹在液晶、半導體行業(yè)中Wet Cleaning是個常用工序，在此工序中使用的Diluted Sulfuric

?1 微球的均一性控制的重要性3D打印，也稱為增材制造（Additive Manufacturing），是一種制造技術，通過將數(shù)字化的三維模型切片并逐層構建，從而創(chuàng)建物體的過程。傳統(tǒng)的制造技術通常是通過去除材料來制造物體，例如銑削或車削，在此過程中，通過從塊狀原料中去除多余材料來形成所需形狀。而在3D

?通常通過粒度分析以跟蹤粒度減小的單位操作。用于減小乳液/懸浮液粒徑尺寸的一種非常有效的技術是微射流均質機?。使用實驗室規(guī)模的微射流均質機處理乳液和脂質體制劑，并使用 Nicomp ? 動態(tài)光散射 （DLS） 系統(tǒng)分析粒徑減小過程。關鍵詞:微射流均質機;Nicomp?系統(tǒng);動態(tài)光散射1 概述通常通過

?在過去的幾年里，已經(jīng)制造了很多FX Nano傳感器，在正常工作條件下，硬件組件（激光模塊和電子電路板）基本上沒有出現(xiàn)故障。簡而言之，這些硬件組件的可靠性非常出色。電子計數(shù)器模塊和相關電源也是如此，在此期間生產的所有系統(tǒng)中的故障可以忽略不計。關鍵詞:FX Nano傳感器;AccuSizer系統(tǒng);清潔方

?配制兩相分散體的一個共同目標是最大限度地提高產品的穩(wěn)定性或保質期。懸浮液和乳液都是如此。粒徑和表面電荷（zeta 電位）都是影響懸浮液穩(wěn)定性的重要物理特性。本應用說明解釋了如何使用粒徑和 zeta 電位測量來提高分散穩(wěn)定性。關鍵詞:Zeta點位;Nicomp電位;粒徑1 介紹懸浮液（固體/液體）和乳

?噴墨油墨是顏料在溶液中的膠體分散體。顏料的適當分散是必要的，以避免由于結塊而導致的沉淀、不穩(wěn)定或噴墨噴嘴故障。確保最佳的配方和制造工藝需要一種可靠的方法來確定最終產品的粒度分布。Entegris AccuSizer? 單顆粒光學傳感技術 （SPOS） 系統(tǒng)非常適合確定最終噴墨墨水是否包含過大顆粒，這

?全文共 5287 字，閱讀大約需要 16 分鐘制藥產品的研發(fā)和制造涉及的復雜過程需要先進的過程分析技術，即使是常規(guī)應用。此要求適用于不銹鋼和玻璃容器中的大規(guī)模制造工藝以及一次性袋子系統(tǒng)。從培養(yǎng)基和緩沖液制備到滅菌和去污染物的過程都需要液體化學濃度、溫度監(jiān)測和控制，以確保最佳的工藝性能。關鍵詞:折射率

?摘要：近年來，MLCC（多層陶瓷電容器）在智能手機、汽車、工業(yè)等領域的需求快速增長。陶瓷漿料是MLCC的主要原材料之一，電極通過陶瓷漿料印刷、固化而成。對于陶瓷漿料而言，配比漿料的穩(wěn)定性及漿料的均一性是影響后續(xù)流延工藝、印刷工藝、燒結工藝難度及成敗的關鍵，這些也對電極的規(guī)?；圃熘陵P重要。使用珠磨機

?摘要：化學機械拋光（CMP）是一種廣泛應用于半導體晶圓加工，通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMP Slurry（拋光液/研磨液）是用于CMP工藝中的重要原料，通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易在CMP工藝中對晶圓表面造成劃痕，影響成品良率。因此在生產

?摘要：化學機械拋光（CMP）是一種廣泛應用于半導體晶圓加工，通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMP Slurry（拋光液/研磨液）是用于CMP工藝中的重要原料，通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易在CMP工藝中對晶圓表面造成劃痕，影響成品良率。因此在生產

?USP788解讀與Accusizer A2000應用摘要：USP美國藥典是美聯(lián)邦對藥品質量標準和檢定方法作出的技術規(guī)定，其中USP<788>章節(jié)是對注射液中的不溶性顆粒的危害與檢測、判定標準做了詳細的表述，包括第一光阻法和第二顯微鏡法，本文將對USP<788>詳細解讀，主要分

?《光阻法測定乳狀注射液中大于5μm的乳?！匪幍浣庾x摘要：乳狀注射液中尾部大顆粒的含量對于其質量安全性有重要影響，本文圍繞著中國藥典《光阻法測定乳狀注射液中大于5μm的乳粒》一章節(jié)，以奧法美嘉公司的Accusizer A7000 APS設備為例，探究了光阻法的工作原理及其測量規(guī)范要求：粒徑及濃度的準確