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設備主要用于高效晶硅體太陽能電池制造工藝中HJT電池片正面和背面IOT薄膜的沉積。
膜塊化設計,便于安裝以及產能升級;
滿足不同溫度沉積ITO薄膜,工藝擴展性強;強控旋轉陰極靶快速鍍膜技術,靶材利用率高;
分區(qū)加熱和控溫,具有出色的控溫系統(tǒng)和控溫性能。
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易用性
性價比
紅外氣體傳感器 Gasboard-2060
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CVD 真空化學氣相沉積設備
紅外快速退火爐系統(tǒng)
自動劃片機
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