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單片清洗設(shè)備品牌
盛美半導(dǎo)體產(chǎn)地
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清洗藥液獨(dú)立控制，無(wú)交叉污染
噴嘴藥液流量精確控制系統(tǒng)
較低的使用成本
優(yōu)秀的清洗效果
可應(yīng)用不同種晶圓清洗工藝，*終清洗，外延前清洗，CMP后清洗
高產(chǎn)能
對(duì)小顆粒的管控和金屬管控能力，19納米顆粒增加值<=30顆，金屬污染<=5E7 atmos/cm2
可適用于6寸、8寸或12寸晶圓清洗
*多可配置8套清洗腔體
*多可配置5種藥液進(jìn)行清洗工藝，RCA藥液，氫氟酸，臭氧水，去離子水等。
可對(duì)基板片，外延片的清洗工藝
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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