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應用領域
? 曝光后烘烤 (PEB)
? 顯影
? 堅膜
三種顯影方式集于一體
靈活的噴嘴掃描系統(tǒng)
技術(shù)先進，使用便捷
精確的藥液控制
兼容8英寸和12英寸晶片
可配至*多四個顯影腔體
雙面工藝, 每個顯影腔體內(nèi)配有1到5套液體噴嘴
2到8個熱盤
2到6個冷卻盤
暫無數(shù)據(jù)！
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