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        電鍍設備X
        電鍍設備X

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        型號

        電鍍設備X

        品牌

        盛美半導體

        產(chǎn)地

        美國

        樣本

        暫無
        盛美半導體設備(上海)股份有限公司

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        主要優(yōu)勢

        高速電鍍銅同時實現(xiàn)更好的均勻化控制

        水平式電鍍腔體,無交叉污染

        可單腔體維護,提高設備正常運行時間(up time)

        Rubber Seal 技術(shù), 更好的密封性能

        第二陽極技術(shù),更好地控制均一性

        靈活的工序控制


        特性和規(guī)格

        兼容8寸和12寸

        *多可配至3個Load Port

        *多可配至4種預濕腔體,真空控制

        *多可配至4 個清洗腔體

        *多可配至20個電鍍腔體: Cu,Sn/Ag, Ni

        設備尺寸: 2250 x 7100 x 2900 mm

        工藝性能:
        片內(nèi)均一性: <5% (**-*小/2 平均)
        片間均一性<3%
        重復性: <3%
        COP: < 10 μm


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        10分

        易用性

        10分

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        10分
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