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美國PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等離子清洗儀， 可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡，深紫外光刻機，電子光刻系統等真空儀器。一個儀器同時清洗真空腔體和樣品。
本儀器由一個LCD觸摸屏控制器和一個遠程射頻（RF）等離子源組成，遠程等離子源通過一個KF40真空法蘭連接到待清洗真空室，有轉接法蘭提供。主要用于清洗各種掃描電鏡(SEM)，透射電鏡(TEM)，聚焦離子系統(FIB)，離子顯微鏡(HIM)等真空系統中碳氫及其他污染。同時清洗真空腔體和樣品。
特有功能
優(yōu)越的等離子技術，可以在小于0.1毫托的氣壓下點火并且保持穩(wěn)定的等離子體。*低工作氣壓比其他同類產品低10到100倍。低氣壓清洗速度更快，更均勻，對電子槍和分子泵更安全；
即時等離子起輝技術。不用像在其他同類產品上那樣擔心等離子是不是成功起輝；
帶氣壓計的自動氣體流量控制；
等離子探針實時測量等離子強度，用戶可以根據這個實時反饋來優(yōu)化清洗配方；
自動射頻匹配實時保證**化射頻耦合，即使用戶調節(jié)清洗配方；
**保護的雙層顆粒過濾器設計保證我們的產品滿足Intel，臺積電，三星等半導體用戶的嚴格顆粒污染要求；
帶LCD觸摸屏的直觀操作界面；
微電腦控制器帶可修改的智能清洗計劃，設好就自動清洗您的系統；
支持清洗配方，一鍵開始，自動射頻匹配，自動控制氣體流量；
微電腦控制器記錄所有信息狀態(tài)，便于系統維護。
技術指標
等離子源真空接口: NW/KF40 法蘭; 提供轉接法蘭；
標配等離子強度傳感器；
等離子源*低點火起輝氣壓：<0.1毫托；
等離子源**工作氣壓: >1.0 托；
漏氣率: <0.005sccm；
射頻輸出: 0~100瓦，連續(xù)可調節(jié)；
具有射頻自動匹配功能
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