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德國Raith EBPG5150 電子束光刻機
詳細介紹
EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品，包括多片散片以及完整的硅片。
高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺
*小曝光特征尺寸小于8nm
高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器
在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場大小，**可以到1mm
GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環(huán)境
多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求
可選的系統(tǒng)增強升級
EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。
EBPG5150 應用
· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件
· 微盤諧振器
· 開口環(huán)諧振器
EBPG5150 產品詳情
主要應用：
· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構
· 高速電子束直寫
· 批量生產，如化合物半導體器件
· 防偽標識
電子光學柱技術：
· EBPG
· 電子束
· 100 kV
樣品臺：
· 覆蓋完整6英寸硅片大小
· 標配2工位自動化上料
(10工位可選)
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移動端
工商已核實
