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        OAI Model 212紫外光刻機
        OAI Model 212紫外光刻機

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        OAI Model 212型桌面掩模對準系統(tǒng)

        。輸出光譜范圍:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm

        。燈功率范圍從1000到5000 w

        。選擇UVLED (365 nm和405 nm)光源

        ?;叽绶秶鷱?2“dia平方

        。特殊12“x 12”和3毫米厚玻璃基板

        。互換拋擲和面具

        ??諝廨S承真空吸盤

        。接近(15-20umgap): & lt; 3.0 - 5.0,柔軟觸點:2.0um,硬觸點:1um和真空接點:≤0.5um

        。對齊模塊X, Y,和Z軸和θ

        。雙通道光學反饋

        。只提供正面接觸w / IR選項

        。僅在桌面選項可用,適用于研發(fā)和獨立的工作

        。占用空間小

        。適用于生物學、微機電系統(tǒng)、半導體和Microfludics CLiPP應用程序

        Model 212 Table Top Mask Aligner System

        。 Output Spectra Range: Hg: G (436nm), H (405nm), I(365nm) and 310nm lines, Hg-Xe: 260nm and 220nm or LED: 365nm, 395nm and 405nm

        。 Lamp Power range from 1000 to 5000W

        。 Option for UVLED (365nm and 405nm) Light Source

        。 Substrate sizes range from 12” dia to sq

        。 Special 12” x 12” and up to 3mm thick Glass Substrates

        。 Interchangeable chucks and mask holders

        。 Air bearing vacuum chuck

        。Proximity (15-20umgap ): <3.0 – 5.0um, Soft Contact: <2.0um, Hard contact: 1um and vacuum contact : ≤ 0.5um

        。 Alignment module X, Y, and Z axis and theta

        。 Dual-channel optical feedback

        。 Provides Front side exposure only w/ IR Option

        。 Available in Table top option only and applicable for R&D and standalone work

        。 Small Footprint

        。 Applicable for Biology, MEMS, Semiconductor and Microfludics, CLiPP applications

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