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德Eulitha電子束光刻機Phable R100 system
高分辨率，非接觸式，接近光刻
PhableR 100系統(tǒng)基于由Eulitha AG開發(fā)的專有PHABLE（Photonics Enabler的簡稱）光刻技術(shù)，這使得可以在非接觸，鄰近光刻系統(tǒng)中印刷高分辨率周期性結(jié)構(gòu)。使用PhableR 100獲得的分辨率基本上與DUV投影光刻系統(tǒng)的相同，但沒有復(fù)雜和昂貴的光學(xué)和力學(xué)。例如，具有150nm半間距的線性光柵可以用新系統(tǒng)以高均勻性印刷。作為附加的優(yōu)點，由PhableR 100系統(tǒng)形成的圖像的實際上無限的聚焦深度意味著高分辨率圖案可以以高均勻性印刷在非平坦基板上，這在光子應(yīng)用中通常遇到。
PhableR 100系統(tǒng)可以使用工業(yè)標準鉻玻璃或相移掩模曝光直徑高達100mm的基板。掩模和襯底被手動地加載到系統(tǒng)上，并且曝光過程由機載計算機控制?？梢允褂每蓮钠胀ü?yīng)商獲得的標準i線光刻膠，正和負色調(diào)。線性或彎曲光柵，具有六邊形或正方形對稱性的2D光子晶體類型圖案可以印刷有小于300nm的特征周期。該系統(tǒng)也可以像接近或接觸模式中的標準掩模對準器一樣使用以打印微米級結(jié)構(gòu)。目標應(yīng)用包括光子學(xué)研究和開發(fā)項目，用于光衍射和光譜的光柵制造，LED上的光提取圖案，圖案化藍寶石襯底和濾色器。
好處
。高分辨率低于300nm間距
。全場曝光
。非接觸：保護面罩免受損壞和污染
。精確無限的焦深
。適用于非平面基板（如外延晶片）
。高均勻性
。外形對齊功能
。商業(yè)化的光刻膠和材料
。常規(guī)面罩（Cr-on-glass）
。頻率乘法
規(guī)格
。分辨率10nm半間距（線性光柵）
。晶圓尺寸高達100mm直徑
。掩碼格式5“
。照明均勻度<3％
。間距范圍300nm - 3μm
。抗蝕劑厚度>1μm
。操作手動加載 - 自動曝光
。控制觸摸面板
暫無數(shù)據(jù)！
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移動端
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