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德國Sentech等離子體沉積機PECVD Depolab 200
成本效益
PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結(jié)合。
可升級性
根據(jù)其模塊化設計，depolab200可以升級為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。
SENTECH控制軟件
用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。
Depolab 200是由SENTECH公司開發(fā)的一種基本的等離子體增強化學沉積(PECVD)工具，它將用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計與直接負載的經(jīng)濟有效設計相結(jié)合。從2英寸到8英寸的晶圓片和樣品片上的標準應用開始，它可以逐步升級以適應復雜的加工。
Depolab 200的突出特點是系統(tǒng)的堅固性設計、可靠性和軟硬件的靈活性。在這個系統(tǒng)上開發(fā)了不同的程序。用于高品質(zhì)氮化硅和氧化硅層沉積。Depolab 200包括帶有氣箱、控制電子、計算機、背泵和主連接箱的反應器單元。
Depolab 200等離子體增強沉積工具可在400℃以下的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特別適用于蝕刻掩膜、膜、電隔離膜等介質(zhì)薄膜的沉積。
Depolab 200由森泰克先進控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。
Depolab 200
PECVD等離子體沉積工具
打開蓋子加載
適用于200毫米晶圓
基片溫度可達400℃
低應力薄膜可選低頻混頻
干式抽油機
占用空間小
暫無數(shù)據(jù)！
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