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德國(guó)Nanoscrib 雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X
重新定義精密加工。
全新的量子X(jué)是世界上基于雙光子灰度光刻(2GL)的工業(yè)系統(tǒng)。我們的設(shè)備結(jié)合了灰度光刻機(jī)的**性能和納米篩網(wǎng)首創(chuàng)的雙光子聚合技術(shù)的精確性和靈活性。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了二維和2.5D的衍射和折射顯微光學(xué)的快速制作。
Quantum X軟件實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并執(zhí)行自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)。用戶(hù)-機(jī)器交互由專(zhuān)用觸摸屏或遠(yuǎn)程控制界面支持。
關(guān)鍵特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和**的形狀精度設(shè)計(jì)自由度，亞微米分辨率完整和超快控制體素尺寸自動(dòng)化過(guò)程，例如校準(zhǔn)，
作業(yè)執(zhí)行和監(jiān)視
廣泛的基材樹(shù)脂組合，通過(guò)作業(yè)隊(duì)列觸摸屏和遠(yuǎn)程控制界面，連續(xù)執(zhí)行各種打印作業(yè)
TechnicalSpecifications | |
Printing technology： | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size： | 160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution： | 400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps： | 10 nm， quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra： | ≤ 10 nm* |
Scan speed： | ≤ 250 mm/s* |
Area printing speed： | 3 mm2/h typical for diffractive optical elements |
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