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            首頁 > 粉體測試設(shè)備 > 原子力顯微鏡 >
            Park XE15
            Park XE15

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            面議

            型號

            Park XE15

            品牌

            Park

            產(chǎn)地

            韓國

            樣本

            暫無
            韓國帕克股份有限公司

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            Increase your productivity with our powerfully versatile atomic force microscope

            Park XE15具有眾多的獨特功能,是處理多種樣品的共享實驗室、進行多變量實驗的研究院以及晶片故障分析工程師的**選擇。同時,合理的價格和穩(wěn)健的功能使之成為業(yè)內(nèi)*超值的大型樣品原子力顯微鏡之一。


            Unique MultiSample? scan boosts research productivity


            Park XE15能夠一次性掃描和測量多個樣品,讓您的效率一高再高。您只需要將樣品放入工作臺,再啟動掃描程序便可。該功能也可以讓您在相同的環(huán)境條件下掃描樣品,從而提高數(shù)據(jù)的精確性和穩(wěn)定性。


            Large sample size increases possibilities


            與大多數(shù)的原子力顯微鏡不同,Park XE15可掃描**尺寸為200 mm x 200 mm的樣品。這樣既滿足了研究員對掃描大樣品的需求,也讓故障分析工程師能夠掃描硅片。


            Features adaptable to any need


            Park XE15配有絕大多數(shù)的掃描模式,可掃描各種尺寸的樣品。得益于此,Park XE15是共用實驗室的**配置,能夠滿足每個人的需求。

            The most convenient sample measurements with MultiSample? scan

            Park XE15 MultiSample? scan system

            • 一次性自動多樣品成像

            • 特別設(shè)計的多樣品卡盤,可裝載多達16個樣品

            • 全機動XY軸樣品臺,行程范圍達150 mm x 150 mm

            借助電動樣品臺,MultiSample?掃描模式能夠允許用戶自行編程,借助自動化步進掃描,實現(xiàn)多區(qū)域成像。

            流程如下:
            1.記錄用戶定義的多個掃描位置
            2.在**個掃描位置成像
            3.提升懸臂
            4.將電動樣品臺移至下一個用戶定義坐標
            5.探針接近
            6.重復(fù)掃描

            記錄多個掃描位置十分簡單,您可以輸入樣品-樣品臺坐標或使用兩個參考點校正樣品位置。該自動化功能大大減少您在掃描過程中需要的工作,極大提高了生產(chǎn)力。

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            Accurate XY Scan by Crosstalk Elimination

            Park Systems的先進串擾消除(XE)掃描系統(tǒng)能夠有效解決上述問題。我們使用了二維柔性平臺專門掃描樣品的XY軸位置,并通過壓電疊堆傳動裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺采用了固體鋁材,其具有超高的正交性和出色的平面外運動軌跡。柔性平臺可在XY軸掃描大型樣品(1 kg左右),頻率**達100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠低于Z軸的帶寬要求,因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動裝置具有大的推拉力和高共振頻率(約10 kHz)。

            996.png

            圖9. (a)表示 Park Systems XE系統(tǒng)的背景曲率為零,(b)是傳統(tǒng)的原子力顯微鏡系統(tǒng)的管式掃描器的典型背景曲率, (c)展示了這些背景曲率的橫截面。

            圖9展示了XE系統(tǒng)(a)和傳統(tǒng)原子力顯微鏡(b)掃描硅片時,未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級光滑材料,因此圖像中的彎曲大多數(shù)是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率,因此當X軸的位置移動15 μm時,平面外移動**可達80 nm。而在相同的掃描范圍內(nèi),XE掃描系統(tǒng)的平面外移動則不超過1 nm。XE掃描系統(tǒng)的另一大優(yōu)勢是Z軸伺服回應(yīng)。圖10是XE掃描系統(tǒng)在無接觸模式下拍下的一個多孔聚合物球體(二乙烯苯)的圖像,其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統(tǒng)的Z軸伺服回應(yīng)極其精準,探針可以精確地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結(jié)構(gòu)移動,而不會壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應(yīng)在平坦背景上高性能的表現(xiàn)。

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