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該設(shè)備是半導(dǎo)體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一，用于大規(guī)模集成電路、 分立器件、電力電子、光電器件等行業(yè)的氧化、擴散、退火、合金等工藝。
晶片尺寸：6/8英寸
Wafer size: 6/8 inches
ウェハーサイズ：6/8インチ
制程溫度范圍：300°C-1250°C
Process temperature range: 300°C-1250°C
プロセス溫度範囲：300℃-1250℃
批次片數(shù): 100-150片
Batch capacity: 100-150 pcs
バッチ數(shù)：100-150枚
暫無數(shù)據(jù)！
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