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概要:
? LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長(zhǎng),它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過(guò)程是在低壓下進(jìn)行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長(zhǎng)的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設(shè)備裝片量大,特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價(jià)比
XRD系列晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
紅外快速退火爐系統(tǒng)
自動(dòng)劃片機(jī)
DAGE4000多功能推拉力測(cè)試機(jī)
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