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        真空回流焊
        真空回流焊

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        德國

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        暫無
        German First-Nano System 德國韋氏納米

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        真空回流焊

        Specifications

        Process environmentnitrogen, inert gas, formic acid, forming gas
        Maximum temperature450°C
        Heating area420 x 420 mm
        Heating plateremovable: graphite, aluminum, etc.
        Clearance above heating plate60 mm
        Heat up / cool down ramp250°C/min
        Control deviation+/- 0.5°C
        Heating elements16x infrared heating lamps in two crossed rows
        Heating controlindividual/adjustable on every heating lamp
        Cooling of heating platenitrogen flow
        Temperature measurementup to 4x thermocouples K-Type freely positional
        Pressure measurementfull range over two gauges
        Maximum vacuum1x10-2 mbar (5x10-6 mbar with turbo pump)
        Formic acid bubbler40 ml container in front panel with auto refill
        Cooling of chamber bodywater/ethylene glycol mixture
        Lid viewing port80 mm with shutter
        Display7" LCD with touch screen
        PC Softwareprocess logging, recipe transfer, etc.
        User interfaceremote control over relay I/Os
        Dimensionssee layout
        Weight280 kg
        Power supply3 phase, country specific

        **客戶

        應(yīng)用:

        在真空和惰性氣體中加熱、散熱器上的功率半導(dǎo)體、倒裝芯片回流焊、凸點熔化、高強度LED連接、密封封裝密封、光伏電池組件、模具連接、印刷銅膜燒結(jié)、混合電路組件、扁平封裝封裝、微機電系統(tǒng)和光電器件封裝,汽車傳感器、高能電池等。

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        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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