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            美國SVTA公司中國辦事處

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            New Software, Control Hardware,

            Dry Process Pump, Dry Loadlock

            Pump and Heater Assembly.

            技術(shù)參數(shù):

            Wafer capacity: Three two inch wafers.

            Load lock: Loadlock chamber with hepa filter loading area.

            Heater: Single zone graphite heater

            Temperature control: Temperature monitor single point T/C, Eurotherm controller, single point

            Sekidenko Pyrometer.

            Group III MO sources: TMGa - 2 units; TMIn - 2 units; TMAl -2 units

            Group V hydride sources: AsH3 -2 lines; PH3 -2 line.

            Dopants MO: CP2Mg -1 unit, DeZn - 1 unit

            Dopants Hydride: H2/SiH4 - 2 lines

            Neslab bath: 6 units.

            Piezocon: Single channel concentration monitor for TMIn expandable to Four channels (option).

            Pump: EBARA A30;

            Exhaust system: particle filter/ housing; Phosphorus trap; P-trap automatic regeneration system

            (option).

            Gas Monitoring: CM4 4 point toxic gasmonitor.(integration option)

            Software: Windows based control software.

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            易用性

            10分

            性價比

            10分
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