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安徽澤攸科技有限公司
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澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術(shù)設備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應用。
技術(shù)特點
▲ 納米壓電位移臺拼接技術(shù)
▲ 紅光引導曝光，所見即所得
▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量
▲ CCD相機逐場自動聚焦
▲ 灰度勻光技術(shù)
光路遠離結(jié)構(gòu)圖
主要指標
應用案例
無掩膜光刻機的工作原理介紹？無掩膜光刻機的使用方法？無掩膜光刻機多少錢一臺？無掩膜光刻機使用的注意事項無掩膜光刻機的說明書有嗎？無掩膜光刻機的操作規(guī)程有嗎？無掩膜光刻機的報價含票含運費嗎？無掩膜光刻機有現(xiàn)貨嗎？無掩膜光刻機包安裝嗎？相關(guān)產(chǎn)品
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