公司介紹
澤攸科技成立于2016年，擁有安徽、北京、上海和東莞四家分公司，是一家具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的精密儀器高科技公司。公司專注于掃描電鏡、原位測(cè)量系統(tǒng)、臺(tái)階儀、探針臺(tái)、電子束光刻機(jī)等精密設(shè)備的研究，填補(bǔ)了國(guó)家在科學(xué)精密儀器領(lǐng)域的諸多空白。人才是企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力和發(fā)展的驅(qū)動(dòng)力。澤攸科技于20世紀(jì)90年代便開(kāi)啟電子顯微鏡及相關(guān)原位附件的研發(fā)，已逐步打造成為科學(xué)精密儀器領(lǐng)域人才聚集地。現(xiàn)有員工200多人，其中院士、專家團(tuán)隊(duì)20余人，擁有精通機(jī)械、光學(xué)、超高真空、電子技術(shù)、微納加工技術(shù)、軟件開(kāi)發(fā)技術(shù)的專業(yè)團(tuán)隊(duì)。為解決行業(yè)內(nèi)“卡脖子”難題，企業(yè)全力培養(yǎng)人才，重視產(chǎn)學(xué)研用合作，并與十幾家高校及科研院所建立了長(zhǎng)期
主推產(chǎn)品
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡產(chǎn)品介紹：ZEMUltra臺(tái)式掃描電鏡采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，三級(jí)獨(dú)立真空設(shè)計(jì)，優(yōu)于2.5nm的分辨率滿足多數(shù)樣品微納結(jié)構(gòu)表征需求。標(biāo)配大束流及大樣品倉(cāng)，支持原位功能樣品臺(tái)及EDS/EBSD拓展。
澤攸科技無(wú)掩膜光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光，形成所需的微細(xì)圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。技術(shù)特點(diǎn)▲納米壓電位移臺(tái)拼接技術(shù)▲紅光引導(dǎo)曝光，所見(jiàn)即所得▲OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量▲CCD相機(jī)逐場(chǎng)自動(dòng)聚焦▲灰度勻光技術(shù)光路遠(yuǎn)離結(jié)構(gòu)圖主要指標(biāo)應(yīng)用案例
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）采用場(chǎng)發(fā)射電子槍，配合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統(tǒng)標(biāo)配高精度激光干涉樣品臺(tái)，允許用戶實(shí)現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。產(chǎn)品特色▲激光干涉樣品臺(tái)：先進(jìn)的激光干涉樣品臺(tái)，滿足大行程高精度拼接和套刻需求▲場(chǎng)發(fā)射電子槍：高分辨場(chǎng)發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證▲圖形發(fā)生器：在保證超高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)超高分辨率圖案繪制樣品臺(tái)指標(biāo)▲標(biāo)配：激光干涉樣品臺(tái)▲樣品臺(tái)行程：≥105mm▲拼接精度：優(yōu)于50nm（平均值+1σ）▲套刻精度：優(yōu)于50nm（平均值+1σ）電
國(guó)產(chǎn)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
面議無(wú)掩膜光刻機(jī)
面議電子束光刻機(jī)
面議組合推薦產(chǎn)品
國(guó)產(chǎn)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
型號(hào)：國(guó)產(chǎn)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
國(guó)產(chǎn)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
型號(hào)：國(guó)產(chǎn)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
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近日，浙江大學(xué)張澤院士、王江偉研究員團(tuán)隊(duì)作為第一單位在《Nat. Commun.》上發(fā)表了題為《In situ atomistic observation of disconnection-mediated grain boundary migration》的研究成果(NAT.COMMUN.|(2019)10:156)。研究者們?cè)谕干潆婄R中利用PicoFemto?原位力學(xué)-電學(xué)樣品桿巧妙地設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)
近日，蘇州科技大學(xué)作為第一單位，在《Inorg. Chem.》上發(fā)表了題為《Exploration of CeO2?CuO Quantum Dots in Situ Grown on Graphene under Hypha Assistance for Highly Efficient Solar-Driven Hydrogen Production》（DOI: 10.1021/acs.inor
近日，澳大利亞昆士蘭理工大學(xué)作為第一單位，在《NanoLetters》上發(fā)表了題為《Mechanical, Electrical, and Crystallographic Property Dynamics of Bent and Strained Ge/Si Core?Shell Nanowires As Revealed by in situ Transmission Electron Mi
歡迎到原位分會(huì)場(chǎng)與我們交流。屆時(shí)，我們會(huì)有資深原位電鏡專家和工程師在現(xiàn)場(chǎng)向您介紹最新、最全的原位電子顯微鏡技術(shù)。
7月31日，《Angew.Chem.Int.Ed.》期刊以“Air stable lithium spheres produced by electrochemical plating”(10.1002/anie.201807355)為題再次報(bào)道了澤攸科技的PicoFemto系列原位樣品桿在TEM中原位制備和測(cè)量鋰電池電極的相關(guān)應(yīng)用。文中通過(guò)電鍍法在球差校正環(huán)境透射電鏡中制備出可在空氣中穩(wěn)定的金屬
5月18日，北京交通大學(xué)王熙教授（通訊作者）團(tuán)隊(duì)的楊一君博士（第一作者）以及天津理工大學(xué)劉喜正（共同一作）副教授、中科院化學(xué)研究所姚建年院士、國(guó)際電鏡大牛Yoshio Bando、Dmitri Golberg等人在國(guó)際頂級(jí)期刊上發(fā)表了“The Role of Geometric Sites in 2D Materials for Energy Storage”的綜述。文章詳細(xì)探討了二維納米材料中的
安徽澤攸科技有限公司的PicoFemto系列原位透射電鏡測(cè)量系統(tǒng)一經(jīng)推出便憑借其強(qiáng)大的功能、極致的參數(shù)指標(biāo)和超高的穩(wěn)定性獲得國(guó)內(nèi)外用戶認(rèn)可，并協(xié)助用戶在各類頂尖學(xué)術(shù)期刊上發(fā)表大量研究成果。近日，澤攸科技的PicoFemto系列原位測(cè)量系統(tǒng)完成SAA等認(rèn)證體系，并在澳大利亞昆士蘭理工大學(xué)（QUT）安裝驗(yàn)收成功。此次驗(yàn)收的產(chǎn)品包括單傾電學(xué)測(cè)量系統(tǒng)、光電測(cè)量系統(tǒng)和力電測(cè)量系統(tǒng)。今年，澤攸科技也在積極申請(qǐng)
5月9日的《Nano Letter》期刊再次報(bào)道了澤攸科技的原位測(cè)量系統(tǒng)在固態(tài)氧鈉電池研究中的應(yīng)用（DOI: 10.1021/acs.nanolett.8b00894）。在這一研究中，CuO納米線/O2作為電池的空氣陰極，Na作為電池的陽(yáng)極。結(jié)合球差校正環(huán)境透射電鏡，研究者們?cè)挥^測(cè)到了在通電之后固態(tài)氧鈉電池中發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。整個(gè)化學(xué)反應(yīng)過(guò)程分為兩個(gè)階段：（1）CuO轉(zhuǎn)化為CuO2，緊接著又轉(zhuǎn)化為
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