上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
已認(rèn)證
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水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備,蠕蟲石墨制備石墨烯研磨設(shè)備,膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備,鱗片石墨制備石墨烯設(shè)備,少層石墨烯制備設(shè)備,德國進(jìn)口高級安全研磨設(shè)備,高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
水相剪切剝離制備石墨烯的方法,包括如下步驟:1)將原料石墨進(jìn)行插層處理,制備石墨插層化合物;2)加入一定量的活性物質(zhì),在一定條件下對石墨層間化合物進(jìn)行剪切處理;3)將剪切處理后的混合液經(jīng)過離心或過濾制備可再次分散的高濃度石墨烯漿料或?yàn)V餅。該方法采用廉價(jià)試劑、于室溫下進(jìn)行剪切操作,能耗低、無污染、效率高,制備的石墨烯納米片層可廣泛應(yīng)用于能量儲存與轉(zhuǎn)化、催化、以及各種復(fù)合材料、涂料、導(dǎo)電墨水等領(lǐng)域。
石墨烯片層之間是通過和范德華力相互作用彼此堆砌在一起的。同時(shí),石墨烯表面的高度惰性也使得它們只能分散在有限的溶劑中(如甲基吡咯烷酮匪?、隊(duì)^ 二甲基甲酰胺01?、二氯苯等)實(shí)現(xiàn)低石墨烯含量的分散(如0.7呢/111[,重量分?jǐn)?shù)約7父10 4界!:。/。),即使經(jīng)過濃縮后再次分散,石墨烯在也僅能在匪?中實(shí)現(xiàn)26-28 石墨烯的穩(wěn)定分散(重量分?jǐn)?shù)約2.6-2.8 ^%)
2011,27,9077 - 9082)0石墨烯片層之間較強(qiáng)的層間相互作用使得在溶劑中的超聲剝離往往只能實(shí)現(xiàn)較低的剝離效率。
將石墨插層化合物與活性物質(zhì)加入到水中,在剪切作用下處理10分鐘-20小時(shí),得到剝離的石墨烯懸浮液或分散液;所述活性物質(zhì)的用量為原料石墨質(zhì)量的0.01-10倍,水的加入量為原料石墨質(zhì)量的5-1000倍;
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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企業(yè)名稱
上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司企業(yè)類型
有限公司信用代碼
91310117690142603P法人代表
曹小勇注冊地址
上海市松江區(qū)九新公路865號2幢101室-1成立日期
2009-6-9注冊資本
100萬有效期限
無限經(jīng)營范圍
機(jī)械設(shè)備及配件生產(chǎn)、加工,機(jī)械設(shè)備,五金交電,儀器儀表,實(shí)驗(yàn)室設(shè)備銷售,從事機(jī)械設(shè)備、計(jì)算機(jī)、電子、化工領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)開發(fā)、 技術(shù)咨詢、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)服務(wù),從事貨物及技術(shù)的進(jìn)出口業(yè)務(wù)。
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