參考價(jià)格
40-50萬(wàn)元型號(hào)
PSS Nicomp 380 Z3000品牌
美國(guó)PSS產(chǎn)地
美國(guó)樣本
暫無(wú)重現(xiàn)性:
>99%儀器原理:
動(dòng)態(tài)光散射分散方式:
濕法分散測(cè)量時(shí)間:
1min-10min測(cè)量范圍:
0.3nm-10μm誤差率:
參考分辨率:
1024個(gè)數(shù)據(jù)通道看了PSS Nicomp 380 Z3000 zeta電位檢測(cè)儀的用戶又看了
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Nicomp 380 系列納米激光粒度儀
專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案
基本信息
儀器型號(hào):Z3000
工作原理:
粒度分布:動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)
ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)
檢測(cè)范圍:
粒徑范圍 0.3nm-10.0μm
ZETA電位 +/- 500mV
Nicomp 380 Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號(hào)380ZLS&S基礎(chǔ)上升級(jí)配套而來(lái),采用動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理檢測(cè)分析顆粒的粒度分布,同機(jī)采用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering, DELS)檢測(cè)ZETA電位。粒徑檢測(cè)范圍 0.3nm – 10μm,ZETA電位檢測(cè)范圍為+/- 500mV。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極,一個(gè)電極可以使用成千上萬(wàn)次。另外,采用可變電場(chǎng)適應(yīng)不同的樣品檢測(cè)需求。既保證檢測(cè)精度,亦幫用戶大大節(jié)省檢測(cè)成本。
光阻法,單μm顆粒技術(shù),高濃度樣品
隨著近年來(lái)氫電的發(fā)展,燃料電池憑借其高效、清潔的特性而在市場(chǎng)上備受關(guān)注。在燃料電池的制備過(guò)程中不可缺少的是高催化活性及高穩(wěn)定性的催化劑。常見(jiàn)的有以石墨為載體的載鉑催化劑——Pt/C催化劑,即鉑碳催化劑
2020-05-14
2020-07-07
2020-07-08
JP17動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)量粒徑解讀摘要:JP17是日本2016年出版的第17改正版藥典,是指導(dǎo)日本醫(yī)藥行業(yè)生產(chǎn)與檢測(cè)的主要文件。其在補(bǔ)充章節(jié)1介紹了動(dòng)態(tài)光散射法的工作原理及其測(cè)量粒徑規(guī)范要求,主要包含粒
2022-07-19
第65屆(2024年秋季)全國(guó)制藥機(jī)械博覽會(huì)暨2024(秋季)中國(guó)國(guó)際制藥機(jī)械博覽會(huì)將于2024年11月17日-19日在廈門(mén)國(guó)際博覽中心舉辦。奧法美嘉秉承“傳遞粒度真知,普及納米知識(shí)”的理念,專注于為
尊敬的全體客戶和合作伙伴:作為美國(guó)應(yīng)特格微電子公司(Entegris,原PSS)科學(xué)器材的總代理,承蒙各位長(zhǎng)期以來(lái)對(duì)奧法美嘉的信任與大力支持,公司發(fā)展得以穩(wěn)步前行,取得了顯著的進(jìn)步與成就。在此,我們深
“ 精準(zhǔn)入微,探究納米微觀世界”,奧法美嘉“走進(jìn)老客戶系列粒度技術(shù)交流研討會(huì)”將舉行。 “21世紀(jì)是納米科技的世紀(jì)”,納米科技已成為人類最具創(chuàng)新能力的科學(xué)研究領(lǐng)域之一。奧法美嘉深耕于納米科學(xué)
一、介紹 一次性使用系統(tǒng)(SUS)的利用在制藥和生物制藥行業(yè)繼續(xù)增長(zhǎng)。隨著SUS產(chǎn)品的采用越來(lái)越多,人們對(duì)一次性使用組件的純度問(wèn)題及其對(duì)高價(jià)值最終產(chǎn)品的生物制造、存儲(chǔ)和運(yùn)輸?shù)臐撛谟绊戇M(jìn)行了更
一、介紹 化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化(CMP)是微電子行業(yè)廣泛使用的一種通過(guò)化學(xué)力和機(jī)械力結(jié)合使表面光滑的工藝。該工藝使用研磨腐蝕性拋光液來(lái)幫助晶圓表面平坦化。CMP拋光液是納米級(jí)磨料顆粒和其他化
本文隸屬于一體化解決方案系列,全文共 6593字,閱讀大約需要 22分鐘引言:高壓均質(zhì)機(jī)對(duì)于乳劑制備的作用乳劑通常是由兩種互不相溶的液體,其中一種以微小液滴的形式分散在另一種液體中所形成的非均相分散體