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40-50萬元型號(hào)
SemiChem APM品牌
產(chǎn)地
美國(guó)樣本
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SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀
Entegris在設(shè)計(jì)和生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造工藝中 的化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）漿料和配方清潔化學(xué)品的高精度分析儀器的有豐富的經(jīng)驗(yàn)。我們的技術(shù)旨在確保復(fù)雜混合化學(xué)品的精確一致性，并在 CMP和配方清潔工藝中實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量。
我們的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀）是集自動(dòng)取樣、分析和報(bào)告關(guān)鍵過程的定量化學(xué)濃度的化學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。全面的在線化學(xué)監(jiān)測(cè)可實(shí)時(shí)校正漿料成分，從而穩(wěn)定控制工藝生產(chǎn)條件。該系統(tǒng)可提供分類化學(xué)濃度數(shù)據(jù)。當(dāng)立即顯現(xiàn)時(shí)，可以快速糾正可能對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負(fù)面影響的變化，有助于滿足更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。
應(yīng)用領(lǐng)域
在全球范圍內(nèi)，我們安裝了近3000套SemiChem APM系統(tǒng)，用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過氧化物的可靠的中心工具，并被證明在微電子環(huán)境中的所有濕化學(xué)應(yīng)用中都具有較好的性能，包括：
·銅，鎢，阻擋層和金屬CMP
·制定清潔
·DSP+
·濕法蝕刻，氮化物蝕刻
·平底蝕刻，食人魚蝕刻
·高頻
·廢水
功能與特點(diǎn)
| 經(jīng)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)電化學(xué)技術(shù) | 提供行業(yè)精確的監(jiān)控，以保證過程化學(xué)成分和完整性 |
| 提供化學(xué)濃度數(shù)據(jù)，使?jié){料/化學(xué)分配系統(tǒng)能夠提供準(zhǔn)確的化學(xué)濃度 | |
| 在線的，接近實(shí)時(shí)檢測(cè)的系統(tǒng) | 檢測(cè)揮發(fā)性化學(xué)物質(zhì)的工藝偏差，防止產(chǎn)品質(zhì)量損壞 |
| 將實(shí)驗(yàn)室技術(shù)過渡到在線，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的在線控制 | |
| 堅(jiān)固耐用的工業(yè)設(shè)計(jì) | 維持至少8500小時(shí)平均工作時(shí)間 |
| 可經(jīng)受嚴(yán)峻的工業(yè)環(huán)境 |
規(guī)格
| 分析方法 | 電位測(cè)定法，標(biāo)準(zhǔn)加成法，光度測(cè)定法 |
| 電位測(cè)量的準(zhǔn)確性* | 顯示值的±0.2% |
| 標(biāo)準(zhǔn)添加的準(zhǔn)確性* | 顯示值的±2.0% |
| 電位測(cè)量精度* | ±0.2%相對(duì)誤差 |
| 標(biāo)準(zhǔn)添加精度* | ±2.0%相對(duì)誤差 |
| 測(cè)量時(shí)間 | >5分鐘/次（取決于應(yīng)用程序） |
| 校準(zhǔn)間隔 | 啟動(dòng)時(shí)** |
| 樣品消耗 | <5 mL/次 |
| 進(jìn)樣量 | 0.05-5 mL（取決于應(yīng)用） |
| 進(jìn)樣溫度 | **93°C（200°F） |
| 耗水量 | <1000 mL/分析 |
| 樣品進(jìn)樣/排樣 | <207 kPa（30 psi），0.5 L/min |
| 1/4" OD擴(kuò)口接頭，1" FPT安全殼聯(lián)軸器 | |
| 去離子水 | 138至276 kPa（20至40 psi） |
| 2.0升/分鐘 | |
| 外徑 1/4" 擴(kuò)口接頭 | |
| CDA | 414-552 kPa（60-80 psi） |
| 1/4" 外徑快速接頭 | |
| 排水 | 工藝：3/4“NPT重力排水管 機(jī)柜：1/2“NPT重力 |
| 電源 | 110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A現(xiàn)場(chǎng)可切換 |
| 廢氣 | 外徑1 7/8" @ 17 CFM |
| 標(biāo)準(zhǔn)功能 | 可選功能 |
·四個(gè)4-20 mA模擬輸出 ·八個(gè)可編程繼電器 ·以太網(wǎng)和RS232串行 ·彩色觸摸屏 ·單個(gè)測(cè)量單元 ·綜合試劑儲(chǔ)存 ·單個(gè)采樣點(diǎn) ·一個(gè)5 mL數(shù)字滴定管 ·多傳感器輸入 | ·多個(gè)采樣點(diǎn) ·額外的5 mL數(shù)字滴定管 ·附加傳感器 ·安全聯(lián)鎖裝置 ·試劑微量檢測(cè) |
尺寸
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隨著近年來氫電的發(fā)展，燃料電池憑借其高效、清潔的特性而在市場(chǎng)上備受關(guān)注。在燃料電池的制備過程中不可缺少的是高催化活性及高穩(wěn)定性的催化劑。常見的有以石墨為載體的載鉑催化劑——Pt/C催化劑，即鉑碳催化劑
2020-05-14
2020-07-07
2020-07-08
JP17動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)量粒徑解讀摘要：JP17是日本2016年出版的第17改正版藥典，是指導(dǎo)日本醫(yī)藥行業(yè)生產(chǎn)與檢測(cè)的主要文件。其在補(bǔ)充章節(jié)1介紹了動(dòng)態(tài)光散射法的工作原理及其測(cè)量粒徑規(guī)范要求，主要包含粒
2022-07-19
PEMFC燃料電池用催化劑制備及粒度表征方案 用微流化器制備更小粒徑 不溶性微粒測(cè)試儀在過濾行業(yè)的應(yīng)用 USP729脂質(zhì)注射乳劑中球狀體大小分布 PSS?AN?724?Spiked?Emulsion 726?Stability?of?Bitmen?Emulsions 708蛋白聚集 Nicomp 380在線系列儀器在藥物納米顆粒應(yīng)用分析 PSS儀器用于咖啡伴侶的等電點(diǎn)測(cè)試分析 AN-170蛋白聚集 
第65屆(2024年秋季)全國(guó)制藥機(jī)械博覽會(huì)暨2024(秋季)中國(guó)國(guó)際制藥機(jī)械博覽會(huì)將于2024年11月17日-19日在廈門國(guó)際博覽中心舉辦。奧法美嘉秉承“傳遞粒度真知，普及納米知識(shí)”的理念，專注于為
尊敬的全體客戶和合作伙伴：作為美國(guó)應(yīng)特格微電子公司（Entegris，原PSS）科學(xué)器材的總代理，承蒙各位長(zhǎng)期以來對(duì)奧法美嘉的信任與大力支持，公司發(fā)展得以穩(wěn)步前行，取得了顯著的進(jìn)步與成就。在此，我們深
“ 精準(zhǔn)入微，探究納米微觀世界”，奧法美嘉“走進(jìn)老客戶系列粒度技術(shù)交流研討會(huì)”將舉行。 “21世紀(jì)是納米科技的世紀(jì)”，納米科技已成為人類最具創(chuàng)新能力的科學(xué)研究領(lǐng)域之一。奧法美嘉深耕于納米科學(xué)
一、介紹 一次性使用系統(tǒng)（SUS）的利用在制藥和生物制藥行業(yè)繼續(xù)增長(zhǎng)。隨著SUS產(chǎn)品的采用越來越多，人們對(duì)一次性使用組件的純度問題及其對(duì)高價(jià)值最終產(chǎn)品的生物制造、存儲(chǔ)和運(yùn)輸?shù)臐撛谟绊戇M(jìn)行了更
一、介紹 化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化（CMP）是微電子行業(yè)廣泛使用的一種通過化學(xué)力和機(jī)械力結(jié)合使表面光滑的工藝。該工藝使用研磨腐蝕性拋光液來幫助晶圓表面平坦化。CMP拋光液是納米級(jí)磨料顆粒和其他化
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共 6593字，閱讀大約需要 22分鐘引言：高壓均質(zhì)機(jī)對(duì)于乳劑制備的作用乳劑通常是由兩種互不相溶的液體，其中一種以微小液滴的形式分散在另一種液體中所形成的非均相分散體
SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀的工作原理介紹？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀的使用方法？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀多少錢一臺(tái)？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀使用的注意事項(xiàng)SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀的說明書有嗎？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀的操作規(guī)程有嗎？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀的報(bào)價(jià)含票含運(yùn)費(fèi)嗎？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀有現(xiàn)貨嗎？SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀包安裝嗎？
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