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ASML 二手ArF浸沒式光刻機(jī)XT:1900Gi品牌
佳鼎半導(dǎo)體產(chǎn)地
山東樣本
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TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為 45 納米及以下分辨率的 300 毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。
XT：1900Gi采用蔡司星石1900i浸沒鏡頭。這是現(xiàn)有的大型ArF鏡頭，在1.35NA時(shí)，它推動(dòng)了水基ArF浸入式平版印刷達(dá)到極限。結(jié)合ASML的Ultra-k1產(chǎn)品組合，它提供了行業(yè)*低的可用k1值，它可以實(shí)現(xiàn)40nm及以下的半間距分辨率。
XT：1900Gi采用新的測量和曝光周期，它為浸入式光刻設(shè)定了一個(gè)新的基準(zhǔn)，每小時(shí)生產(chǎn)131個(gè)晶片。
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