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Microchem公司的SU-8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，它適于制超厚、高深寬比的MEMS微結(jié)構(gòu)，適合i線，X-Ray，E-beam曝光。具有非常好的熱穩(wěn)定性、抗刻蝕性、高分辨率、高深寬等特點。對近紫外350~400nm波段曝光*為敏感。即使在非常厚的光刻膠曝光情況下，曝光均勻一致，可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形。
SU-8 2000系列的特性
1）厚度范圍，單層涂膠厚度為 0.5 to > 200 μm
2）高深寬比：>10:1
3）更多揮發(fā)性溶劑，與傳統(tǒng)去邊工藝兼容
4）降低了極性溶劑含量減小表面張力
5）表面活性成分，改善涂覆效果
應(yīng)用：MEMS，鈍化層應(yīng)用LED微流以及光電子器件制作
SU-8 2000系列的屬性
1）旋轉(zhuǎn)涂層薄膜：<1um to>75um
2）耐高溫、耐化學(xué)性
3）光學(xué)透明
4）與i-line成像設(shè)備兼容
SU-8 3000系列的特性
1）膜厚5-120 um
2）高深寬比：>5:1
3）常用于**性結(jié)構(gòu)制作，較SU-8 2000具有更好的基底粘附力，更不易于在工藝過程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng) 力積累
應(yīng)用：光電器件、微流體、MEMS芯片制作以及作為芯片絕緣、保護層使用
相關(guān)溶液：
稀釋劑：SU-8 Thiner
顯影液：SU-8 Developer
去膠液：Remover PG
增附劑：OmniCoat
一般儲存溫度：
4-21°C
暫無數(shù)據(jù)！
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