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光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機(jī),紫外曝光機(jī)等;ECOPIA為全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。
產(chǎn)地:韓國ECOPIA公司,**能做到圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻機(jī),高性價比
型號:M-150
技術(shù)規(guī)格:
- 掩模尺寸:**7英寸;
- 樣品尺寸:**6英寸;
- 卡盤移動:X,Y,Z,Theta軸手動,楔形補(bǔ)償調(diào)平;
- 紫外光源:6.25" X 6.25";
- 光源功率:350瓦紫外燈;
- 光源均勻性:<+/-3%;
- 光源365nm波長強(qiáng)度:**30毫瓦;
- 顯微鏡:雙顯微鏡系統(tǒng);
- 顯微鏡移動:X,Y,Z軸手動調(diào)節(jié);
- 顯微鏡物鏡空間:50-150mm;
- 標(biāo)配放大倍率:80X-400X;
- 顯示器:20" LCD;
- 曝光時間:0.1-999秒;
- 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調(diào));
- 對準(zhǔn)精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);
- 電源:220V,單相,15安培;
主要特點:
- 光源強(qiáng)度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;
- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盤范圍可調(diào);
- **技術(shù):可雙面對準(zhǔn),可雙面光刻,具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),**放大1000倍,顯示屏直接調(diào)節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做;
- 具有楔形補(bǔ)償功能;
暫無數(shù)據(jù)!