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        光刻機(jī)
        光刻機(jī)

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        型號

        品牌

        產(chǎn)地

        韓國

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        暫無
        上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

        會員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

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        光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機(jī),紫外曝光機(jī)等;ECOPIA為全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。

        產(chǎn)地:韓國ECOPIA公司,**能做到圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻機(jī),高性價比

        型號:M-150

        技術(shù)規(guī)格:

        - 掩模尺寸:**7英寸;

        - 樣品尺寸:**6英寸;

        - 卡盤移動:X,Y,Z,Theta軸手動,楔形補(bǔ)償調(diào)平;

        - 紫外光源:6.25" X 6.25";

        - 光源功率:350瓦紫外燈;

        - 光源均勻性:<+/-3%;

        - 光源365nm波長強(qiáng)度:**30毫瓦;

        - 顯微鏡:雙顯微鏡系統(tǒng);

        - 顯微鏡移動:X,Y,Z軸手動調(diào)節(jié);

        - 顯微鏡物鏡空間:50-150mm;

        - 標(biāo)配放大倍率:80X-400X;

        - 顯示器:20" LCD;

        - 曝光時間:0.1-999秒;

        - 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調(diào));

        - 對準(zhǔn)精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

        - 電源:220V,單相,15安培;

        主要特點:

        - 光源強(qiáng)度可控;

        - 紫外曝光,深紫外曝光(Option);

        - 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;

        - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式;

        - 真空吸盤范圍可調(diào);

        - **技術(shù):可雙面對準(zhǔn),可雙面光刻,具有IR和CCD模式

        - 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),**放大1000倍,顯示屏直接調(diào)節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,易于操作。

        - 特殊的基底卡盤可定做;

        - 具有楔形補(bǔ)償功能;

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        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價比

        10分
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