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        四袋電子束蒸發(fā)器
        四袋電子束蒸發(fā)器

        參考價(jià)格

        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        德國

        樣本

        暫無
        科睿設(shè)備有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

        生產(chǎn)商

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        儀器簡(jiǎn)介:The e-flux Mini E-Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of almost any material in the temperature

        range of 400K to 3100K. Evaporation is possible either directly from evaporant in rod form (?26mm)

        or out of a crucible. An integrated flux monitor allows maximum deposition control.

        Highly efficient watercooling ensures negligible outgassing during operation.

        The e-flux electron beam evaporator is very compact and mounted on a CF-40 flange (2.75"OD).

        很容易安裝在已經(jīng)有的 UHV 或 MBE系統(tǒng)上。

        主要應(yīng)用是:表面科學(xué),薄膜沉積,薄膜摻雜

        主要蒸發(fā)材料: Mo, Ta, W, Au, Ag, Pt, Al, Cu, Ni, Ti, C, Si, Cr

        技術(shù)參數(shù):

        真空腔體內(nèi)長度: 190mm (without options). Special length possible on request.

        **真空端直徑: 34mm

        安裝法蘭口徑: NW40CF (2.75"OD)

        烘烤溫度: max. 200°C

        rod feed棒材: 25mm, optionally 50mm

        坩堝體積: 0,3ccm

        坩堝材料: Mo, Ta, W, pyrol. Graphite, BN liner, Al2O3, Quartz

        沉積速率: from <0,01A/s to >2nm/s

        束流發(fā)散角: ±15° (±12° with flux monitor)

        電子束功率: max. 600W

        控制器: 19" rack mount, 3U high,

        230VAC/50Hz

        選項(xiàng):

        擋板 (manual and motorised)

        flux monitor/flux controller, Deposition Controller*

        熱電偶

        離子阱

        各種坩堝 (see above) with end caps for horizontal mount

        motorised rod feed

        control options (schematic)

        主要特點(diǎn):

        獨(dú)有特點(diǎn):

        1,發(fā)射電流穩(wěn)定性:

        The emission current stabilizer is a closed loop control to keep the emission

        current constant automatically with rod melting down or decrease of crucible content

        2,LED提示棒材位置

        An LED alerts when the evaporation rod has to be fed. Threshold can be customer set.

        3,可輸入需要的發(fā)射電流

        The emission current can now be set directly on a linear scale for easy reproduction.

        4,離子阱選項(xiàng)

        The ion trap option allows to deflect all charged particles out of the beam.

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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