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*近，德國LEICA推出了新一代薄膜測厚儀DRM1000以應(yīng)對微電子，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的新高潮。該膜厚儀的先進性在于：
--*小光斑可達1微米
--既使用顯微光譜反射法又能使用白光干涉法進行測量半導(dǎo)體薄膜厚度
--德國LEICA頂尖的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)
--自動建模和海量光譜數(shù)據(jù)
德國LEICA DRM1000 顯微光譜薄膜測厚儀是對薄膜的反射光譜的干涉圖樣進行分析來進行膜厚測量，*小測量光斑可達1微米。該系統(tǒng)由德國LEICA DM4M，DM6M等顯微鏡和膜厚測量模塊組成，由于它的快速運算，使得它可高重復(fù)率進行膜厚的光學(xué)測量以及對膜的相關(guān)計算。另外，它的新型自動建模功能：可為待測的樣品與光譜庫里的數(shù)據(jù)快速的比較，來自動建模。是真正適合半導(dǎo)體，液晶等微電子行業(yè)進行在線膜厚檢測新型高端儀器。
LEICA DRM1000膜厚儀還可使用白光干涉和雙光干涉進行膜厚測量。技術(shù)參數(shù)：
測量方法：非接觸式
測量原理：反射光譜法
測量樣本大?。?*為12 inch -300mm
測量范圍：500?~ 20?（Depends on Film Type） 選配干涉測量模塊時*小30?光斑尺寸：*小可達1微米
測量速度：300ms
準(zhǔn)確性： 1nm （典型：400nm Sio2/Si）
精確度：0.3nm （典型：400nm Sio2/Si）
光譜范圍： 450 – 920nm應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體: Poly-Si， GaAs， GaN， InP， ZnS + Si， Ge， SiGe...電解質(zhì): SiO2， TiO2， TaO5， ITO， ZrO2， Si3N4， Photoresist， ARC，...平板行業(yè)：（包括 LCD， PDP， OLED， ）: a-Si， n+-a-Si， Gate-SiNx MgO， Alq， ITO， PR， CuPc， NPB， PVK， PAF， PEDT-PSS， Oxide， Polyimide...光學(xué)涂層：: 減反射膜， Color Filters...太陽能電池 Doping a-Si（i-type， n-type， p-type）， TCO（ZnO， SnO， ITO..）聚合物: PVA， PET， PP， Dye， Npp， MNA， TAC， PR... Recordable materials: Photosensitive drum， Video head， Photo masks， Optical disk
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