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SPS 光刻機 POLOS μ
主要特征：
1、寫入分辨率低至2 μm
2、可調整的寫作領域和具有可互換目標的解決方案
3、與CAD文件或位圖圖像兼容
4、與g線光刻膠兼容
5、兼容多種基材（硅，玻璃，金屬，塑料等）
6、兼容任何樣品尺寸達4英寸的晶片
7、相機反饋以進行對準步驟
8、由于沒有硬掩模，節(jié)省了時間和**
9、將設計直接覆蓋在樣品上的直觀對齊方法
10、占地面積小的桌面
11、非常適合微電子，2D材料，微流體，光電，opty或任何其他2D微加工應用的技術
規(guī)格參數：
1、光源曝光：435 nm； 對準：525 nm
2、*小特征尺寸：2至23 μm可調
3、對準分辨率：低至1 μm / cm2
4、**曝光面積：75 x75 mm2
5、基板尺寸：**4”晶圓
6、系統(tǒng)尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米）; 高：（60厘米）
7、多合一PC：Win 10、24英寸全高清
8、SFTprint軟件：機器控制，步進重復，自動劑量測試，縫合，對齊
9、SFTconverter：將標準格式（gdsii，dxf，cif，oas）轉換為位圖圖像。 隨附的CAD軟件
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