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德Zeiss Sigma SEM 電子束直寫儀
型號：Zeiss Sigma SEM
主要功能：
·利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（*小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
技術(shù)指標(biāo)：
·肖特基熱場發(fā)射電子源
·加速電壓：100V～30kV
·放大倍率：12X～1000，000X
·SEM分辨率：1nm@30kV，1.5nm (15kV)，2.8nm（1kV）
·電子束曝光：10nm（20kV）
·場拼接精度：<100nm
·掃描頻率：6MHz
·圖形格式：GDSII
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