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        德國Raith高分辨電子束曝光機(jī)150 Two
        德國Raith高分辨電子束曝光機(jī)150 Two

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        面議

        型號(hào)

        品牌

        產(chǎn)地

        德國

        樣本

        暫無
        深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

        會(huì)員

        |

        第2年

        |

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        德國Raith高分辨電子束曝光機(jī)150 Two

        詳細(xì)介紹

        Raith 150 Two作為高分辨電子束曝光系統(tǒng),自推出以來全球銷量不容忽視。該系統(tǒng)被廣泛地用于研發(fā)和納米技術(shù)中心,已證明了系統(tǒng)的24/7使用的穩(wěn)定性。

        Raith 150 Two 可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu),可處理8”晶元及以下樣片。

        環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性,提高設(shè)備對實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度,即使在相對糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下,也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。

        超高分辨曝光及成像

        小于8nm曝光

        低電壓曝光及成像

        系統(tǒng)自動(dòng)化程度高

        **可處理8"樣片

        隔墻安裝 / 熱穩(wěn)定性

        研發(fā)及小批量生產(chǎn)

        軟硬件的高自動(dòng)化程度保障了小批量生產(chǎn)中進(jìn)行簡單且可重復(fù)性的曝光工作。

        Raith 150 Two 高分辨的電子光學(xué)柱結(jié)合多種探測器可實(shí)現(xiàn)對準(zhǔn)標(biāo)記識(shí)別和過程控制中****的靈活性。

        Raith 150 Two 應(yīng)用

        · 75nmT型柵高電子遷移率晶體管器件

        · HSQ膠上制作亞4.5nm線條

        · 采用traxx長線條無寫場拼接曝光模式制作延遲波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

        · 5um厚膠上制作三維菲涅爾透鏡陣列結(jié)構(gòu)

        · PMMA膠上制作精細(xì)的11nm線條

        · PMMA膠上制作60nm周期光柵結(jié)構(gòu)

        RAITH150 Two 產(chǎn)品詳情

        主要應(yīng)用:

        。納米級(jí)光刻

        。高分辨成像

        。低電壓電子束光刻

        樣品臺(tái):

        。完整的6“ 移動(dòng)范圍

        。Z軸移動(dòng)范圍大

        電子槍技術(shù):

        。Gemini

        。電子

        。30 kV

        。Inlense二次電子探測器

        。能量選擇背散射二次電子探測器(選配)

        獨(dú)特直寫模式:

        。traxx長線條無寫場拼接曝光模式

        。periodixx周期結(jié)構(gòu)無寫場拼接曝光模式

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        產(chǎn)品質(zhì)量

        10分

        售后服務(wù)

        10分

        易用性

        10分

        性價(jià)比

        10分
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