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德國Eulitha高分辨紫外光刻機PhableR 100
科研/生產(chǎn)兼用
簡介：
PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha擁有突破性的PHABLE 曝光技術，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。
特點：
· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備
· 操作簡單、工作穩(wěn)定，兼容科研及批量生產(chǎn)
· 納米周期性圖案解決方案
優(yōu)勢：
· 大面積圖形化設備：適用4、6、8寸襯底
· 高曝光效率：非步進式曝光，無拼接，單次全場曝光實現(xiàn)整片圖形化
· 高精度：光學衍射自成像原理，突破傳統(tǒng)曝光精度極限
· 非接觸式曝光
· 設備沒有景深限制，曝光過程無需對焦
· 雙工作模式（UV375機型）：高分辨模式（周期性納米-微米結構），一般紫外光刻模式（非周期結構）
· 設備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據(jù)客戶的圖形，提供工藝技術支持。
技術指標：
光源 UV375nm DUV266nm DUV193nm
分辨率 125nm 75nm 62nm
周期范圍 250-3000nm 150-2500nm 125-2000nm
操作方式 手動裝片-自動曝光 參數(shù)設置 觸摸屏
基片尺寸 **4、6、8英寸（尺寸向下兼容）
PhableR 100 晶圓級光子學結構的曝光工具
應用：
· 圖形化藍寶石襯底（PSS）
· DFB布拉格光柵
· 減反層圖形
· 顯示濾光片Color Filter
· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）
· 光子晶體
· 磁性納米結構
· 太陽能光伏
· 生物傳感器
· AR、VR技術
暫無數(shù)據(jù)！
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