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日本JEOL，大功率電子槍/電源，EBG-300UA，JEBG1000UB，JEBG3000UB
JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時(shí)，可用于高熔點(diǎn)金屬錠的生產(chǎn)及提純。
產(chǎn)品規(guī)格：
型號(hào) | EBG-300UA | JEBG-1000UB | JEBG-3000UB |
**輸出功率 | 30kW (20kV， 1.5A) | 100kW (30kV， 3.4A) | 300kW (40kV， 7.5A) |
**偏轉(zhuǎn)角 | ±30° | ||
掃描范圍 | X， Y 軸 | ||
**掃描頻率 | 300Hz | 200Hz | 200Hz (300Hz: 選配) |
適用電源 | ST-30BE2 | JST-100C | JST-300CHR |
產(chǎn)品特點(diǎn)：
· JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時(shí)，可用于高熔點(diǎn)金屬錠的生產(chǎn)及提純。
· 電子束能大范圍地快速掃描，通過(guò)專用の控制裝置和軟件，能生成各種電子束照射圖形和區(qū)域。由于能夠在各個(gè)照射位置上設(shè)定掃描、停留時(shí)間、輸出功率及電子束形狀，因而能夠控制熔融面和膜厚分布。
用途
· 真空蒸鍍
· 阻隔膜、保護(hù)膜、電極膜、導(dǎo)電膜、磁性膜等薄膜的形成。
· 真空熔解
· 生產(chǎn)和提煉Ti、Ta、Nb、 Mo等高熔點(diǎn)金屬錠。
· 提煉太陽(yáng)能電池多晶硅
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