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美國TED PELLA高分辨離子濺射儀208HR-適用于場發(fā)射掃描電鏡
一、主要特性
。可選擇多種鍍膜材料
。精確的膜厚控制
。樣品臺(tái)控制靈活：可對樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。
。多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。
。樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）
。寬范圍的操作壓力：獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié)，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
。緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)
。操作容易
二、技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) | |
鍍膜頭 | 低電壓平面磁控管 靶材更換快速 環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 靶材調(diào)節(jié)遮擋 |
靶材 | Cr， Pt/Pd (標(biāo)配) Ta， Au， Au/Pd， Pt， W， Ir （選配） |
鍍膜控制 | 微處理器控制 安全互鎖 電流控制與真空度無關(guān) 數(shù)字化可選電流（20，40，60 和 80mA） |
樣品室大小 | 直徑150mm 高度165 - 250mm |
樣品臺(tái) | 非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)，并可手動(dòng)傾斜0-90° 轉(zhuǎn)動(dòng)速度可調(diào) 晶體頭 4個(gè)樣品臺(tái) |
模擬計(jì)量 | 真空 Atm - .001mb 電流 0-100mA |
控制方法 | 自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能 自動(dòng)處理排序 帶有“暫?！惫δ艿臄?shù)字計(jì)時(shí)器 自動(dòng)放氣 |
膜厚控制 | MTM-20高分辨膜厚控制儀 |
真空系統(tǒng) | |
結(jié)構(gòu) | 分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合， 代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵（選配） |
抽真空速度 | 0.1mb 下300 l/min |
抽真空時(shí)間 | 1 mbar 至 1 x 10-3mbar |
極限真空 | 1 x 10-5mbar |
桌上型系統(tǒng) | 旋葉泵置于抗震臺(tái)上，全金屬真空耦合系統(tǒng) |
膜厚測控儀 | |
MTM-20 | 基于微處理器，4位數(shù)字顯示，復(fù)位按鈕， 6MHz晶體（具有壽命檢查功能），5次/s的更新速率 |
膜厚范圍 | 0.0 - 999.9nm |
分辨率 | 優(yōu)于 0.1nm |
密度范圍 | 0.50 - 30.00gm/cm3 |
修正系數(shù)范圍 | 0.25 - 8.00 |
鍍膜終止范圍 | 膜厚0 - 999.9nm |
系統(tǒng)要求 | |
電氣 | 100-120 或 200-240VAC， 50/60Hz |
功率 | 550VA（**） |
氬氣 | *小純度99.995% 調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID連接軟管 |
208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到*小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制，并**程度減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。
MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制，它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。
場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：
。Pt/Pd：非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
。Cr：優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
。Ir：優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料
208HR系統(tǒng)為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
暫無數(shù)據(jù)！
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