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            意力博通系列離子濺射
            意力博通系列離子濺射

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            北京

            樣本

            暫無
            北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司

            金牌會(huì)員

            |

            第7年

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              .
            • 儀器原理:

              圖像分析
            • 分散方式:

              .
            • 測量時(shí)間:

              .
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            意力博通系列離子濺射

            儀器名稱:全自動(dòng)離子濺射儀    型號:ETD-800
            原理:二極直流濺射



            儀器名稱:離子濺射儀 型號:ETD-900M
            原理:磁控濺射
            在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
            生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過熱。

            ETD-800參數(shù):
            主機(jī)規(guī)格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)
            電源規(guī)格:220V/50HZ
            靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
            靶材:Au
            真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)
            定時(shí)器: *長時(shí)間:3600S
            機(jī)械泵: 1L/S

            **電壓:-1200  DCV


            ETD-900M參數(shù):
            主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
            靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
            靶材:Au(標(biāo)配)
            樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
            靶材尺寸:Ф 50mm
            真空指示表: **真空度:≤ 4X10-2 mbar
            離子電流表: **電流:50mA
            定時(shí)器: *長時(shí)間:0-360S ?
            微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
            可通入氣體: 多種
            **電壓: -1600 DCV ?
            機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國產(chǎn) VRD-8)

            ETD-800用途:

            適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。

            特點(diǎn):

            可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

            一鍵式操作,使用方便。




            ETD-900M用途:

            適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

            特點(diǎn):
            1、簡單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
            2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
            3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
            4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
            5、同時(shí)可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
            6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。


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