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            賽默飛(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射電鏡
            賽默飛(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射電鏡

            參考價(jià)格

            面議

            型號(hào)

            Helios 5 Laser PFIB TEM

            品牌

            賽默飛世爾科技

            產(chǎn)地

            捷克

            樣本

            暫無
            北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司

            金牌會(huì)員

            |

            第7年

            |

            代理商

            工商已核實(shí)

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            • 加速電壓:

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            • 電子槍:

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            • 電子光學(xué)放大:

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            • 光學(xué)放大:

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            • 分辨率:

              <250 nm
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               Thermo Scientific? Helios? 5 Laser PFIB提供了****的能力,極端大體積3D分析,Ga-free樣品制備,和精密微加工。具有創(chuàng)新的,完全集成的飛秒激光器,它提供*快的材料去除率和**的切割面質(zhì)量,是毫米尺度范圍納米分辨率下*快的高質(zhì)量亞表面和三維表征設(shè)備。

            產(chǎn)品參數(shù)

            飛秒激光PFIB

            **體積:2000×2000×1000μm3
            **束流:~1mA(等效于離子束電流)
            切割束流:74μA
            束斑尺寸:15μm
            激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在樣品室中,并具有相同的重合點(diǎn),
            實(shí)現(xiàn)精確、可重復(fù)的切割位置和三維表征。
            一次諧波:波長(zhǎng)1030 nm(紅外),脈沖寬度<280 fs
            二次諧波:波長(zhǎng)515 nm(綠),脈沖寬度<300 fs

            電子光學(xué):
            ☆ 三束重合點(diǎn)  WD=4 mm(與SEM/FIB相同)
            可變物鏡(電動(dòng))
            偏光:水平/垂直
            重復(fù)率: 1 kHz~1 MHz
            光束定位精度:<250 nm
            保護(hù)擋板:自動(dòng)SEM/PFIB保護(hù)擋板

            軟件:
            ☆ 激光控制軟件
            激光三維連續(xù)切片工作流程
            EBSD激光三維連續(xù)切片工作流程
            激光編程控制腳本*
            安全性:互鎖式激光防護(hù)罩(1 類激光安全)

            特點(diǎn)和用途

            ☆ *快的毫米級(jí)橫截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍
            ☆ 通過在更短的時(shí)間內(nèi)采集更大的體積來實(shí)現(xiàn)統(tǒng)計(jì)學(xué)相關(guān)的表面下和三維數(shù)據(jù)分析
            ☆ 準(zhǔn)確、可重復(fù)的切割位置,三束交于樣品上同一點(diǎn)
            ☆ 通過提取表面下TEM薄片或塊體進(jìn)行三維分析來實(shí)現(xiàn)深層表面下特征快速表征
            ☆ 實(shí)現(xiàn)對(duì)不導(dǎo)電或?qū)﹄x子束敏感等具有挑戰(zhàn)性的材料進(jìn)行高吞吐量處理
            ☆ 實(shí)現(xiàn)對(duì)空氣敏感樣品的快速和簡(jiǎn)單表征,無需在不同儀器之間傳送樣品來進(jìn)行成像和獲取橫截面
            ☆ Helios 5 PFIB平臺(tái)的所有功能都非??煽浚?*質(zhì)量的無鎵 TEM和APT樣品制備以及極高分辨率成像能力


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            10分

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