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SAL1000G品牌
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SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子層沉積系統(tǒng),具有良好的均勻性及優(yōu)越的階梯覆蓋性能,使用戶能夠精確控制每個(gè)原子層的沉積。通過手套箱,可在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行操作,并且可以防止吸入納米級(jí)顆粒。該設(shè)備是小型且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的型號(hào),與主機(jī)和控制電源相結(jié)合,追求僅在桌面上更容易操作。 它能夠處理多達(dá)4“晶圓的沉積,并對(duì)每個(gè)部件采取安全措施。
AGUS提供沉積測(cè)試服務(wù)作為我們支持的一部分,以提高實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性。請(qǐng)隨時(shí)與凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司聯(lián)系。
- 多樣性 -
· 真空可移動(dòng)的手套箱可以處理易氧化的樣品。
· 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門和氣瓶。
· 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。
· 可選擇基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架。
· 可選擇粉體沉積配件。
· 可選擇經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的廢氣處理設(shè)備。
- 表現(xiàn) -
· 保證基片表面上的每個(gè)均勻原子層針孔自由層沉積。
· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。
· 與CVD和PVD相比,可以獲得更好的沉積,特別是對(duì)于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。
- 操作界面友好 -
· 觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程,并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。
· 可進(jìn)行自動(dòng)沉積,并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放。
· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。
- 安全性 -
· 這是具有各種互鎖功能的高級(jí)設(shè)備。
- 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。
性能 | |||
真空度 | 到達(dá)壓力 | ≤5Pa | |
成膜性能 | 膜厚分布 | ≤± 3% (φ 100mm) | |
設(shè)備構(gòu)成 | |||
設(shè)備型號(hào) | SAL1000G | ||
成膜方向 | 下表面 | ||
基底尺寸 | φ 100mm or 4 inch Max | ||
基底加熱器溫度 | 350℃ Max | ||
前驅(qū)體數(shù) | 2 | ||
前驅(qū)體溫度 | 150℃ Max | ||
凈化氣體 | N2 (氣體控制:帶流量計(jì)針型閥) | ||
手套箱 | 有機(jī)玻璃,真空-氮?dú)獯祾呤?/p> | ||
真空泵 | 162L/min 旋片式真空機(jī)械泵 | ||
重量 | 本體:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg | ||
可選配置 | 基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架 粉體沉積配件 廢氣處理設(shè)備 前驅(qū)體加熱器- 200℃ | ||
安裝要求 | |||
電源要求 | 電源 | 3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz | |
接地 | <100Ω | ||
線纜 | 5m 附贈(zèng) | ||
N2吹掃氣體 | 供給壓力 | 0.1 ~.0.2Mpa | |
接口 | 1/4 Swagelok | ||
壓縮空氣 | 供給壓力 | 0.6 ~0.8Mpa | |
接口 | φ6mm 接口 | ||
真空泵排氣口 | 排氣口 | KF-25法蘭 | |
設(shè)備排氣口 | 排氣口 | φ38mm x L28軟管適配器 | |
安裝尺寸 | W1000 x D700 x H900 |
暫無數(shù)據(jù)!