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SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子層沉積系統(tǒng)，具有良好的均勻性及優(yōu)越的階梯覆蓋性能，使用戶能夠精確控制每個原子層的沉積。通過手套箱，可在惰性氣體環(huán)境下進行操作，并且可以防止吸入納米級顆粒。該設備是小型且經(jīng)濟實惠的型號，與主機和控制電源相結合，追求僅在桌面上更容易操作。 它能夠處理多達4“晶圓的沉積，并對每個部件采取安全措施。

AGUS提供沉積測試服務作為我們支持的一部分，以提高實驗準確性。請隨時與凱戈納斯儀器商貿（上海）有限公司聯(lián)系。

- 多樣性 -

· 真空可移動的手套箱可以處理易氧化的樣品。

· 前驅體標配兩組閥門和氣瓶。

· 可選擇將前驅體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動旋轉支架。

· 可選擇粉體沉積配件。

· 可選擇經(jīng)濟實惠的廢氣處理設備。

- 表現(xiàn) -

· 保證基片表面上的每個均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。

· 與CVD和PVD相比，可以獲得更好的沉積，特別是對于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

- 操作界面友好 -

· 觸摸屏使用戶可以輕松設置配方或沉積過程，并檢查每個驅動系統(tǒng)的運動。

· 可進行自動沉積，并在沉積完成后自動完成N₂排放。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

- 安全性 -

· 這是具有各種互鎖功能的高級設備。

 - 具有輕柔關閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。