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核心參數(shù)

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紅外金面反射爐應(yīng)用于科研和生產(chǎn)當(dāng)中，RHL-E系列紅外金面反射爐具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點(diǎn)。

應(yīng)用：

硅、半導(dǎo)體復(fù)合材料的快速退火；
可用作玻璃和陶瓷材料的退火爐；
可用作金屬退火爐；
復(fù)合材料的耐熱性評(píng)價(jià)爐；
高溫膨脹/收縮測(cè)試爐；

特點(diǎn)：

橢球型反射面可以快速加熱到高溫；

儀器參數(shù)：

型號(hào)	RHL-E25P	RHL-E210P	RHL-E45P	RHL-E48	RHL-E410P	RHL-E416
溫度范圍	RT to 1300 °C	RT to 1300 °C	RT to 1400 °C	RT to 1400 °C	RT to 1400 °C	RT to 1400 °C
加熱腔尺寸	φ 7 mm x 40 mm	φ 7 mm x 80 mm	φ 10 mm x 40 mm	φ10 mm x 60 mm	φ10 mm x 80 mm	φ10 mm x 130 mm
應(yīng)用	該反射爐需配備水冷系統(tǒng)； **的溫度變化會(huì)根據(jù)樣品材料和加熱腔的大小不同；加熱區(qū)域是一個(gè)參考值；

創(chuàng)新點(diǎn)

橢球型反射面可以快速加熱到高溫，紅外金面反射爐應(yīng)用于科研和生產(chǎn)當(dāng)中，RHL-E系列紅外金面反射爐具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點(diǎn)。

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