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四方光電（武漢）儀器有限公司
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四方光電（武漢）儀器有限公司
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產(chǎn)品名稱：激光氨逃逸氣體分析儀
產(chǎn)品型號(hào)：GasTDL-3001
激光氨逃逸氣體分析儀產(chǎn)品概述
激光氨逃逸氣體分析儀GasTDL-3001采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)，適用于在線監(jiān)測(cè)脫硝工藝出口氨氣濃度。系統(tǒng)采用近位抽取方式，測(cè)量單元安裝在煙道壁外，抽取的氣體直接進(jìn)入氣室，不需要經(jīng)過(guò)伴熱管線，樣氣接觸的氣路通道全程高溫伴熱，避免氨氣吸附和損失，保證樣氣真實(shí)性，可實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地反應(yīng)氨逃逸的變化，為環(huán)保監(jiān)測(cè)提供可靠數(shù)據(jù)支持。
激光氨逃逸氣體分析儀產(chǎn)品特性
內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊，動(dòng)態(tài)補(bǔ)償，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響
采用TDLAS技術(shù)，被測(cè)氣體不受背景氣體交叉干擾
超低量程測(cè)量，采用多次反射氣室，檢出下限低
氣體流路全程高溫伴熱，并采用低吸附材料和處理工藝，有效避免NH3冷凝損耗
抽取式測(cè)量，不受煙道內(nèi)粉塵、溫度、壓力波動(dòng)的影響
擁有全程校準(zhǔn)功能
激光氨逃逸氣體分析儀技術(shù)參數(shù)
| 性能指標(biāo) | |
| 測(cè)量組分 | NH? |
| 測(cè)量原理 | TDLAS |
| 量程 | 0~10~100ppm可調(diào) |
| 精度 | ±1%F.S. |
| 重復(fù)性 | ±1%. |
| 分辨率 | 0.01ppm |
| *低檢出限 | ±1%F.S. |
| 防護(hù)等級(jí) | IP65以上 |
| 響應(yīng)時(shí)間 | T90≤30s |
| 工作條件 | |
| 環(huán)境溫度 | -30~60℃ |
| 環(huán)境濕度 | 5~85%RH |
| 工作電源 | 220VAC，50Hz，800W |
| 吹掃氣源 | 0.4~0.8MPa壓縮空氣 |
| 通信 | 1路RS-232、1路RS-485 備選通信模式：4G、Bluetooth |
| 輸出模式 | 4路4~20mA輸出、8路繼電器輸出 |
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企業(yè)名稱
四方光電（武漢）儀器有限公司企業(yè)類型
有限責(zé)任公司（自然人投資或控股的法人獨(dú)資）信用代碼
914201005519974097法人代表
熊友輝注冊(cè)地址
武漢東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)關(guān)東街道鳳凰園一路5號(hào)科夢(mèng)除氨產(chǎn)業(yè)基地1棟1-5層成立日期
2010-04-19復(fù)制注冊(cè)資本
3000萬(wàn)元人民幣有效期限
2010-04-19 至 2030-04-19經(jīng)營(yíng)范圍
一般項(xiàng)目 : 技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣;軟件開發(fā);信息系統(tǒng)集成服務(wù);碳減排、碳轉(zhuǎn)化、碳捕捉、碳封存技術(shù)研發(fā);石油天然氣技術(shù)服務(wù);物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)研發(fā);機(jī)械設(shè)備研發(fā);儀器儀表制造;儀器儀表銷售;大氣污染監(jiān)測(cè)及檢測(cè)儀器儀表制造;大氣污染監(jiān)測(cè)及檢測(cè)儀器儀表銷售;環(huán)境監(jiān)測(cè)專用儀器儀表制造;環(huán)境監(jiān)測(cè)專用儀器儀表銷售;環(huán)境保護(hù)監(jiān)測(cè);電子產(chǎn)品銷售;電子元器件批發(fā);非居住房地產(chǎn)租賃;貨物進(jìn)出口;技術(shù)進(jìn)出口;進(jìn)出口代理。（除許可業(yè)務(wù)外，可自主依法經(jīng)營(yíng)法律法規(guī)非禁止或限制的項(xiàng)目）
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