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PlasmaProTM NGP80 – 下一代等離子體處理系統(tǒng)

為等離子體刻蝕和沉積集合了開放式進(jìn)樣工具。

多重處理技術(shù)：
PlasmaPro NGP80在同一個(gè)平臺(tái)上提供了通用的等離子體刻蝕和沉積技術(shù)解決方案，并且?guī)в斜憷拈_放式進(jìn)樣裝置。系統(tǒng)集合了微足?。╯mallfootprint）技術(shù)，可方便地進(jìn)行定位及使用，且不會(huì)對(duì)工藝質(zhì)量產(chǎn)生不良影響。
該設(shè)備是研發(fā)或小規(guī)模量產(chǎn)的理想工具，可處理從小塊樣品到直徑200mm的晶片。開放式進(jìn)樣設(shè)計(jì)使晶片可以快速進(jìn)片及退片，適合研究、原型開發(fā)及小量生產(chǎn)。

PlasmaPro NGP80的優(yōu)勢(shì)：

• 關(guān)鍵組建方便裝卸有利于維護(hù)

• 兼容Semi S2/S8安全標(biāo)準(zhǔn)

• 新一代的總線控制系統(tǒng)可以極大地提升數(shù)據(jù)的檢索、傳送、重復(fù)匹配能力

• 新的增強(qiáng)用戶界面

• 利用前端軟件的錯(cuò)誤及工具診斷功能實(shí)現(xiàn)快速的錯(cuò)誤診斷

• 自動(dòng)的清洗功能可以清除管道內(nèi)的有毒物質(zhì)并對(duì)管道進(jìn)行沖洗，通過前端軟件實(shí)現(xiàn)安全且完全的自鎖清洗控制

工藝技術(shù)配置選項(xiàng)：

• 
  

  PlasmaPro NGP80 RIE

• PlasmaPro NGP80 PECVD

• PlasmaPro NGP80 RIE/PE   

牛津儀器具有廣泛、可用的生長工藝。 有了在生長工藝發(fā)展上無比廣泛的經(jīng)驗(yàn)和我們應(yīng)用工程師的支持， 牛津儀器向世界范圍內(nèi)的生產(chǎn)商和研發(fā)者提供生長工藝解決方案的經(jīng)驗(yàn)為我們提供了世界上*強(qiáng)大的生長工藝庫和工藝能力。

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