認(rèn) 證：工商信息已核實(shí)
訪問量：174361
【技術(shù)參數(shù)】
樣品室玻璃腔體尺寸 | 120mm ? x 120mm H，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu) |
樣品臺(tái)尺寸 | 可放置12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)釘形樣品臺(tái)，高度可在 30mm內(nèi)調(diào)節(jié) |
蒸鍍?cè)?/span> | 高純度碳棒，直徑6.15mm |
蒸鍍控制系統(tǒng) | 微處理器控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；**電流180A，程序化數(shù)字控制； 提供真空安全聯(lián)鎖裝置，配有過流保護(hù)； |
模擬計(jì)量 | 真空 Atm - 0.001mb 電流: 0 – 200A |
控制方式 | 自動(dòng)蒸鍍控制；可選擇手動(dòng)操作，也可通過控制數(shù)字定時(shí)器 (1 – 30秒)及電壓設(shè)定 (0.1 to 5.5V)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)蒸鍍控制；自動(dòng)放氣功能； |
機(jī)械泵 | 2L/s，25-30s內(nèi)真空度下降到0.1mb |
工作電壓 | 220V, 50/60HZ |
膜厚監(jiān)控儀（選配） | 通過6MHz石英晶體進(jìn)行原位監(jiān)控，顯示納米級(jí)厚度，碳厚度可精確到0.1nm |
適用配套 | Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等掃描電鏡 |
【產(chǎn)品詳情】
Agar 全自動(dòng)噴碳儀為英國(guó)進(jìn)口設(shè)備，操作簡(jiǎn)單，適用于掃描電鏡樣品制備等。噴碳儀使用高純度碳棒，更容易實(shí)現(xiàn)在高倍下得到高質(zhì)量的鍍膜效果，以便對(duì)樣品進(jìn)行形貌觀察及進(jìn)行能譜EDS或EBSD分析。
噴碳儀使用的是碳棒，真空度相對(duì)來說要高一些；用碳棒的噴碳顆粒要細(xì)一些，同時(shí)對(duì)樣品的加熱溫度也要高一些。
樣品臺(tái)：
碳棒：
膜厚監(jiān)測(cè)儀：
- 推薦產(chǎn)品
- 供應(yīng)產(chǎn)品
- 產(chǎn)品分類
- 牛津儀器OmniGIS II氣體注入系統(tǒng)
- 聚焦離子束掃描電鏡用納米操縱手
- 臺(tái)式磁共振分析儀
- 門控探測(cè)器Andor iStar
- 牛津儀器相機(jī)Andor Zyla CMOS
- 牛津儀器相機(jī)Andor iKon-XL CCD
- 牛津儀器TeslatronPT無液氦磁體低溫系統(tǒng)
- 牛津儀器高速共聚焦成像平臺(tái)Andor Dragonfly
- 牛津儀器Azteclive能譜實(shí)時(shí)元素成像系統(tǒng)
- 無液氦稀釋制冷機(jī)系統(tǒng)
- 光學(xué)低溫恒溫器
- 牛津儀器無液氦光譜學(xué)恒溫器
- 牛津儀器C-Swift EBSD探測(cè)器
- 牛津儀器PlasmaPro100 Estrelas刻蝕設(shè)備
- 牛津儀器Microstat顯微光學(xué)恒溫器
- 牛津儀器PECVD等離子體處理系統(tǒng)