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憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)既能夠滿足性價(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。

PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)為得到更為精湛的刻蝕效果提供了智能解決方案，使您在行業(yè)中能保持競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

• 高效的刻蝕速率

• 低購置成本

• 專為腐蝕性的化學(xué)成分而設(shè)計(jì)

• 出色的刻蝕均勻性

• 適用于藍(lán)寶石的靜電壓盤技術(shù)

• 藍(lán)寶石和硅上的GaN

• 高導(dǎo)通抽氣系統(tǒng)

• 可與其它PlasmaPro系統(tǒng)集成

設(shè)備特點(diǎn)：

• 主動(dòng)冷卻電極 - 在刻蝕過程中保持樣品溫度

• 高功率ICP源 - 產(chǎn)生高密度等離子體

• 可靠的硬件且易于維護(hù) - 可保持長(zhǎng)時(shí)間正常運(yùn)轉(zhuǎn)

• 磁場(chǎng)墊環(huán) - 增強(qiáng)離子的控制和均勻性

• 靜電壓盤技術(shù) - 適用于藍(lán)寶石，以及藍(lán)寶石和硅基的GaN

• 加熱的腔室內(nèi)襯 - 優(yōu)化以減少腔壁沉積

• 先進(jìn)的自動(dòng)匹配單元（AMU） - 提供快速，高效和準(zhǔn)確的匹配，確保工藝的高度準(zhǔn)確重復(fù)性