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大塚電子(蘇州)有限公司 2023-02-09 點(diǎn)擊652次
MCPD series 薄膜在線測(cè)量設(shè)備是光學(xué)式測(cè)量系統(tǒng),可以以非接觸和非破壞性的方式測(cè)量薄膜厚度、透過率、顏色等。
可測(cè)量的膜厚范圍為 65 nm 到 92 μm。(以折射率n=1.5換算)
采用分光干涉法測(cè)量原理,支持多層膜厚測(cè)量,同時(shí)實(shí)現(xiàn)高重復(fù)性精度。采用獨(dú)創(chuàng)的算法,可以高速實(shí)時(shí)監(jiān)控,非常適合于薄膜在線測(cè)量。
產(chǎn)品信息 |
特 點(diǎn)
● 膜厚測(cè)量范圍 65 nm ~ 92 μm(SiO2換算)
多點(diǎn)測(cè)量點(diǎn)切換對(duì)應(yīng)系統(tǒng)
導(dǎo)軌測(cè)量系統(tǒng)
在導(dǎo)軌測(cè)量系統(tǒng)中,通過導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)在TD方向掃描,以任意寬度和任意間距測(cè)量TD方向的膜厚分布??梢杂米魍繉拥臈l件設(shè)置和運(yùn)行時(shí)的實(shí)時(shí)監(jiān)控。
通過導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)橫向移動(dòng)進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)量,無需準(zhǔn)備多個(gè)檢測(cè)器或數(shù)據(jù)處理單元。
真空環(huán)境下的多點(diǎn)反射 · 透過光譜測(cè)量
與各種法蘭兼容的耐真空光纖,可以在高真空下測(cè)量反射 · 透射光譜。此外,采用大塚電子獨(dú)創(chuàng)算法,不易受基膜上下移動(dòng)的影響,高精度測(cè)量薄膜膜厚。可作為實(shí)時(shí)監(jiān)控使用。
規(guī)格式樣 |
MCPD-9800
型號(hào) | MCPD-9800 | ||||||||
2285C | 3095C | 3683C | 311C | 916C | |||||
測(cè)量波長范圍(nm) | 220~850 | 300~950 | 360~830 | 360~1100 | 900~1600 | ||||
膜厚范圍※ | 65nm~35μm | 65nm~50μm | 65nm~45μm | 65nm~49μm | 180nm~92μm | ||||
膜厚/反射/透過/相位差 | 〇 | ||||||||
色測(cè)量 | 〇 | × | |||||||
掃描時(shí)間 | 5ms~20s | 1ms~10s | |||||||
測(cè)量光斑 | φ1.2mm | ||||||||
光纖長度 | 1m~ 光纖長度需提前協(xié)商 |
※膜厚值以n=1.5換算。并與式樣相關(guān)。
MCPD-6800
型號(hào) | MCPD-6800 | |||
2285C | 3095C | 3683C | 3610C | |
測(cè)量波長范圍(nm) | 220~850 | 300~950 | 360~830 | 360~1000 |
膜厚范圍※ | 65nm~35μm | 65nm~50μm | 65nm~45μm | 65nm~49μm |
膜厚/反射/透過/相位差/色測(cè)量 | 〇 | |||
掃描時(shí)間 | 16ms~65s | |||
測(cè)量光斑 | φ1.2mm | |||
光纖長度 | 1m~ 光纖長度需提前協(xié)商 |
※膜厚值以n=1.5換算。并與式樣相關(guān)。