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Vac Coat的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。Vac Coat的真空鍍膜機系統(tǒng)已通過遍布全球的分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

1、DSR1

儀器描述：
該產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au  / Pd）的薄膜。  在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。

產(chǎn)品特點：

? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速

? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）

? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果。

? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：

? 2英寸磁控管陰極

? 兩級直驅4m3/h旋片機械泵

? Pyrex樣品倉：外徑170mm，高140mm，

? 尺寸：50(W) x 37(D) × 45(H) Cm

? 運輸重量（包括真空泵）：42kg

? 電源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

? 極限真空度：小于40 mTorr

? 電子控制快門

? 電子控制真空閥

2、DCR

儀器描述：
DCR是一臺結構緊湊的臺式鍍碳儀。可用于掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）和能譜分析（EDX）制樣。

產(chǎn)品特點：
? 可進行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式，與傳統(tǒng)鍍碳相比，碎屑顯著減少

? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速；真空度、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測；歷史頁面可顯示300個歷史涂層信息。
? 可聯(lián)網(wǎng)更新用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖表

 ? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）

? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果。

? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：

1、真空泵：二極直驅旋片機械泵（4m3/h)

2、極限真空度：小于50 mTorr

3、Pyrex 樣品倉：外徑170mm，140mm，

4、0-25A脈沖直流開關電源

5、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H x W x D)

6、電源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

7、電子控制快門

8、精密真空壓力控制閥

9、USB數(shù)據(jù)傳輸端口

10、運輸重量：46kg

3、DSCR

儀器描述：
DSCR型臺式多功能鍍膜儀，是一臺緊湊型涂布系統(tǒng)，集離子濺射系統(tǒng)和鍍碳系統(tǒng)于一體。該系統(tǒng)能夠在不導電或導電性差的樣品上濺射金（Au）、鈀（Pd）、鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）等貴金屬，并且可以在樣品上鍍上碳膜。
DSCR是一臺多功能掃描電子顯微鏡制樣設備。全自動操作選項使得即使是初學者，也可以輕松使用系統(tǒng)，形象的用戶友好軟件，簡化了對沉積信息的感知。

產(chǎn)品特點：
? 精密可復制涂層：可重復膜厚沉積
? 高分辨率精細涂層（金顆?？蛇_2nm）
? 低壓濺射
? 無需冷卻系統(tǒng)
? 可進行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式，與傳統(tǒng)鍍碳相比，碎屑顯著減少可使用雙碳纖維蒸鍍，用于厚層沉積
? 易于操作：7’’彩色觸摸屏直觀控制涂布過程，數(shù)據(jù)輸入簡單快速
? 用戶友好的全自動及半自動控制軟件
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）
? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：
1、真空泵：二極直驅旋轉機械泵（4m3/h)
2、Pyrex 樣品倉：外徑170mm，140mm，
3、儀器尺寸：45（H）x50（W）37×（D）Cm
4、2英寸磁控管陰極
5、極限真空度：小于50 mTorr
6、電子控制快門
7、自動控制泄露閥
8、電源：220V-240V, 50/60HZ- 10A
9、80W直流開關電源
10、運輸重量：42kg

4、DST1-170

產(chǎn)品描述：
DST1-170是一臺結構緊湊的臺式磁控離子濺射儀。適用于金屬材料濺射，包括惰性金屬以及氧化性金屬，DST1-170配有直徑為2英寸的磁控管陰極。在較短時間內即可形成晶粒尺寸均勻的薄膜。
DST1-170高真空濺射儀，可提供高質量的均勻薄膜，具有較細的晶粒尺寸，十分適用于樣品的高分辨和高品質表征，如FE-SEM、EDS/WDS、TEM和EBSD，也可應用于科研和各種薄膜的應用研究中，如：納米和微電子、太陽能電池應用、光學元件涂層合薄膜傳感器等。

產(chǎn)品特點：
? 高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）+二級旋片式真空泵的前級泵，為儀器提供了潔凈的高真空，減少了污染。

? 涂層速率可控，可獲得更細的晶粒結構

? 可手動或自動，根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射

? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速；真空度、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測；歷史頁面可顯示300個歷史涂層信息。

? 觸摸屏直觀地控制涂布過程，數(shù)據(jù)輸入簡單快速

? 可通過網(wǎng)絡更新的用戶友好軟件

? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖

? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）

? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果。

? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：

1、高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）

2、二極直驅旋片機械泵（4m3/h)

3、極限真空：小于5x10-6 Torr

4、獨立于壓力自動控制濺射功率

5、全量程真空計（Leybold）

6、ISO-KF 63蝶形閥

7、80 W直流電源

8、電子控制快門

9、電控氬氣泄漏閥

10、設施：220V-240V，50/60HZ-16A

11、運輸重量：36kg

5、DCT

產(chǎn)品描述：
DCR是一臺裝有渦輪泵的碳鍍儀，可提供細粒度均勻的高質量碳膜，適用于需要高分辨率和高質量表征的樣品，尤其適合FE-SEM，EDS/WDS，TEM，EBSD和薄膜應用研究等。

產(chǎn)品特點：
? 可進行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式，與傳統(tǒng)鍍碳相比，碎屑顯著減少
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速；真空度、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測；歷史頁面可顯示300個歷史涂層信息。
? 可聯(lián)網(wǎng)更新用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖表

 ? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）

? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果

? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C

? 可選用碳棒蒸發(fā)源及適配大電流電源

? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：

1、高真空渦輪分子泵90 l/s Leybold

2、二級旋片式真空泵作為分子泵前級泵

3、全量程真空計

4、真空倉：外徑170mm，140mm

5、0-25A脈沖直流開關電源

6、極限真空度：小于50×10-6 Torr

7、尺寸：450 x 500 x 370 mm (H × W × D)

8、電源：220V-240V，50 / 60HZ-10A

9、用于精確控制真空壓力的精密計量閥

10、電子控制快門

11、涂層參數(shù)實時圖

12、USB數(shù)據(jù)傳輸端口

13、運輸重量：46kg

6、DSCT

產(chǎn)品描述：
DSCT是一臺多功能的涂布系統(tǒng)，集濺射鍍膜機和纖維碳鍍膜機于一體：在一臺儀器中具有可互換的磁頭。
DSCT高真空鍍膜機，可提供晶粒尺寸很細的高質量均勻薄膜，適用于需要高分辨率和高質量表征的樣品，如FE-SEM、EDS/WDS、TEM和EBSD。
DSCT具有2''磁控管陰極，80w直流開關電源和碳蒸發(fā)大電流電源，也可用于科研及不同薄膜的應用研究中。
 
產(chǎn)品特點：
? 高真空渦輪泵90 L/S（Leybold）+二級旋片式真空泵的前級泵，為儀器提供了潔凈的高真空，減少了污染

? 涂層速率可控，可獲得更細的晶粒結構
? 可進行Flash式或Pulsed式鍍碳：Pulsed脈沖式鍍碳：短脈沖提供了更加可控的沉積方式，與傳統(tǒng)鍍碳相比，碎屑顯著減少
? 可手動或自動，根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射
? 7’’彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速；真空度、電流、厚度等鍍膜參數(shù)可通過觸摸屏中的數(shù)據(jù)或曲線直觀監(jiān)測；歷史頁面可顯示300個歷史涂層信息。
? 觸摸屏直觀地控制涂布過程，數(shù)據(jù)輸入簡單快速
? 可通過網(wǎng)絡更新的用戶友好軟件
? 可記錄和繪制涂層參數(shù)圖
? 可配高精度石英晶體厚度監(jiān)測儀（精度可達1nm）
? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來更好的噴金效果。
? 可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
? 符合CE標準

產(chǎn)品參數(shù)：
1、極限真空：小于5×10-6 Torr
2、獨立于壓力自動控制濺射速率
3、用于精確控制真空壓力的精密質量流量計（MFC）
4、可通過USB端口將曲線和沉積過程數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C
5、設施：220V-240V，50/60HZ-16A
6、運輸重量：42kg